Occasion SVG / PERKIN ELMER 660 #9396151 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER 660 est un aligneur de masque de précision avancé conçu pour les applications de nanolithographie. Ce masque aligneur utilise une variété de méthodes d'alignement pour obtenir la plus grande précision avec les résultats les plus reproductibles. Le logiciel sophistiqué intégré automatise la plupart du processus d'alignement, conduisant à des résultats rapides et reproductibles au sein d'une machine flexible. SVG 660 peut être utilisé pour diverses applications, y compris la fabrication de dispositifs microélectroniques, l'imagerie en arts graphiques et la photolithographie de précision. L'équipement dispose d'un étage manuel de haute précision, d'images optiques haute résolution, d'un système de zoom optique embarqué × 40 et d'une localisation automatique des caractéristiques pour faciliter l'alignement. PERKIN ELMER 660 utilise une cartouche 8 axes conçue pour réduire considérablement le temps et le coût associés au montage du substrat, à la fabrication du masque, à l'enregistrement des plaquettes et des substrats et au pré-alignement. En outre, 660 alignements peuvent être actionnés manuellement ou en mode automatique qui réduit la manipulation du substrat et du masque. L'unité optique avancée SVG/PERKIN ELMER 660 lui permet de prendre des images avec précision à différents grossissements pour permettre un processus d'alignement détaillé et précis. La machine est équipée d'une fonction de détection automatique des bords qui permet de réduire les variations de processus et d'améliorer les résultats. Cet outil comprend également un interféromètre laser, qui aide à assurer un contrôle précis de l'étage et des niveaux de résolution allant jusqu'à 0,1 µm. Dans l'ensemble, SVG 660 Mask Aligner est un atout très avancé pour la lithographie de précision qui aide à réduire la variation des processus et permet des processus de nanolithographie complexes et reproductibles. Ce modèle utilise l'automatisation sophistiquée et l'imagerie haute résolution pour des résultats rapides et précis. Sa conception flexible et ses caractéristiques évolutives en font un excellent choix pour une grande variété d'applications de production et de recherche.