Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 240 #33408 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 240 Mask Aligner est un équipement rapide conçu pour produire des produits semi-conducteurs de haute qualité. Il offre des méthodes de calcul avancées, la précision de l'alignement et la stabilité de l'alignement, tout en offrant des économies significatives. Ce système est conçu pour aligner les masques sensibles au faisceau d'électrons avec une précision extrême sur les substrats de toute taille. L'unité SVG 240 est basée sur une conception modulaire intégrée, ce qui la rend simple à utiliser et rentable en termes de coûts de maintenance. Il permet une lithographie rapide, efficace et précise des procédés de fabrication. Ce modèle comprend des caractéristiques avancées telles que : deux étapes de travail distinctes pour la lithographie combinée, une précision de position améliorée et un alignement à points multiples. L'étage de mouvement de l'ASML 240 dispose de composants usinés avec précision et d'un contrôleur en boucle fermée qui assure un mouvement précis et lisse de l'étage. Le moteur pas à pas fournit un transfert de motifs très précis, avec une répétabilité de 2µm et une plage de 2-20µm. La machine de mouvement supporte également l'alignement angulaire avec une table rotative haute vitesse et des codeurs rotatifs haute précision pour assurer la précision. La conception du porte-masque offre un alignement répétable et fiable avec une précision à l'équilibre supérieure à 0,5 µm. Le porte-masque accepte une sélection complète de masques, dont 4 "à 6", 8 "à 12", et jusqu'à 24 "de taille. Il prend également en charge des masques hautement conçus qui nécessitent plusieurs niveaux de marquage, de positionnement et d'alignement. L'outil comprend également une fonction avancée d'alignement automatique avec plusieurs paramètres prédéfinis, tels que : le raffinement des motifs, la reconnaissance des fonctions basée sur des règles, la métrologie de superposition et l'optimisation de l'alignement. La suite logicielle permet également aux utilisateurs de choisir parmi une gamme d'outils de lithographie, notamment : amélioration de l'image, correction de proximité optique (OPC), et placement réticulaire. Dans l'ensemble, PERKIN ELMER 240 Masque Aligner est un atout très efficace et rentable qui peut être utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs. Sa conception modulaire et ses fonctionnalités intégrées en font un choix idéal pour les applications avancées de lithographie.