Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 554 HT #9358414 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 554 HT est un adaptateur de masque de pointe conçu pour le microassemblage optique. L'équipement d'alignement utilise une combinaison de technologies d'interférométrie laser et d'imagerie numérique pour assurer un placement précis de la photomasque sur le substrat. Le photomasque est positionné par une paire de moteurs linéaires, qui contrôlent l'orientation angulaire, et un étage XY de haute précision avec une répétabilité de 0,01 micron. Les moteurs linéaires peuvent également être synchronisés pour permettre un alignement précis des superpositions lors d'une exposition double face à des photomasques. Le système est également capable de compenser la superposition de l'alignement, pour s'ajuster aux différences dimensionnelles éventuelles entre le photomasque et le substrat. L'optique d'exposition de SVG 554 HT est composée d'une paire d'illuminateurs laser et d'une unité d'éclairage Koehler réglable. La machine utilise un outil optique à faible distorsion, avec une ouverture numérique de 0,40 et une taille de champ jusqu'à 4,8 mm. Les illuminateurs laser sont conçus pour des niveaux de puissance crête jusqu'à 36 mW/cm de puissance laser, et l'objectif Koehler est réglable sur une gamme de distances de travail. L'optique d'exposition comprend également un illuminateur réticulaire optionnel pour l'imagerie de plaquettes grand format. L'ASML 554 HT est capable de traiter des substrats dont le diamètre peut atteindre 4 po et qui peuvent être montés avec un mandrin sous vide ou une pince manuelle. L'actif comprend un certain nombre de caractéristiques de sécurité, telles qu'un verrouillage physique et une couverture de sécurité pour assurer la sécurité de l'opérateur. Les caractéristiques de cet aligneur de masque de pointe comprennent une grande précision, un positionnement à grande vitesse et un contrôle de processus à haut débit. Grâce à son optique précise et à ses systèmes de contrôle de mouvement de haute précision, ce modèle est idéal pour l'alignement et la superposition de photomasques dans des applications telles que l'assemblage de plaquettes 3D, l'alignement de bonder flip-chip et la métrologie d'exposition LCD.