Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT #9194296 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT est un pas d'exposition au faisceau d'électrons à haut débit à balayage, couramment utilisé dans les opérations de lithographie et d'alignement de masque. Cet équipement automatisé met en oeuvre un algorithme d'étape et de répétition qui permet un alignement précis des motifs sur le masque lors d'expositions répétées sur un même substrat. SVG 641 HT dispose d'un générateur de motifs haute résolution composé d'un étage linéaire x-y, d'un étage rotatif x-axe et d'un déflecteur de faisceau. L'étage linéaire x-y est entraíné par un servomoteur à grande vitesse, ce qui facilite le débit élevé en plus de l'alignement des motifs de précision. L'étage rotatif à axe x est utilisé pour modifier l'orientation du motif dans le plan x-y, ce qui permet de loger des cibles de divers alignements. Le déflecteur du faisceau est conçu pour ajuster électroniquement le point focal du faisceau d'électrons placé sur le substrat, ce qui permet un positionnement plus précis du motif et des images à plus haute résolution. L'ASML 641 HT est équipé d'un système interférométrique laser précis qui permet un alignement précis des motifs sur le substrat. Cette unité est constituée de trois faisceaux qui permettent à l'aligneur du masque de mesurer les distances relatives entre les points du faisceau laser et la surface d'exposition du faisceau d'électrons à balayage afin de déterminer l'emplacement exact du motif sur le substrat. PERKIN ELMER 641 HT dispose également d'optiques de balayage de haute précision, qui permettent un alignement précis et répétable du motif sur le substrat. Cette machine utilise deux scanners galvanométriques qui sont configurés pour balayer un faisceau d'électrons selon deux axes perpendiculaires. Ces scanners fonctionnent en mouvement synchrone à travers la surface, ce qui permet un contrôle précis des données collectées par l'outil. En outre, 641 HT comprend un contrôleur embarqué qui permet le fonctionnement automatisé de l'actif. Ce contrôleur permet un contrôle électronique des différents paramètres du modèle tels que la position de déviation du faisceau, le temps d'exposition, les tensions et les courants, et bien d'autres. Le contrôleur permet également une programmation de configuration et un contrôle en temps réel de l'équipement, qui peut être utilisé pour répondre rapidement à l'évolution des conditions en laboratoire. En conclusion, SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT est un pas d'exposition au faisceau d'électrons à haut débit utilisé dans les opérations de lithographie et d'alignement de masques. Ce système automatisé met en oeuvre un algorithme d'étape et de répétition permettant un alignement précis des motifs sur le masque lors d'expositions répétées sur le même substrat. Il intègre diverses caractéristiques telles qu'une unité d'interférométrie laser précise, une optique de balayage de haute précision et un contrôleur embarqué permettant un fonctionnement automatisé de la machine. SVG 641 HT est un excellent choix pour la lithographie et le travail d'alignement de masque.