Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 #9105485 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 Masque Aligner est un équipement de profilage optique très avancé qui est conçu pour la production de circuits intégrés sous-microns et nano-échelle précis. Cet équipement utilise une combinaison d'imagerie optique avancée, de placement de motifs et d'alignement pour fournir une résolution et une vitesse supérieures. Le système comporte une phase d'alignement de 5 axes de 6 x 2 pouces pour un positionnement précis sur le masque et le substrat. Il dispose d'un chemin optique de 5 pouces (127 mm) pour une résolution et une focalisation maximales, d'une unité d'éclairage alignée exclusive qui produit un éclairage à champ plat, d'une lumière vers le bas dans l'illuminateur et d'une optique d'imagerie sur l'axe pour des détails et un foyer inégalés. La machine offre également la flexibilité nécessaire pour réaliser un placement simple ou par lots avec précision jusqu'à 0,1 micron et jusqu'à 1 micron. SVG 641 Masque Aligner fournit une capacité d'imagerie avancée. Il a une étape d'imagerie haute performance qui fournit une image claire et détaillée pour tous les placements de motifs. Un outil optimisé d'imagerie et d'alignement de mode est également inclus pour la capture et l'alignement précis des images. Cet atout est conçu pour produire la résolution et la précision les plus élevées possibles à partir des masques. Le modèle est équipé d'une gamme de caractéristiques pour assurer une productivité et une précision maximales. Il dispose d'un équipement d'étalonnage sur le terrain pour une précision de mesure maximale, d'un système de guidage de vision intelligent et d'un optimiseur de conception breveté qui optimise automatiquement les paramètres de l'unité. La machine dispose également d'une interface utilisateur graphique conviviale et elle est capable de se connecter à un réseau ou un ordinateur pour la télécommande et la surveillance. ASML 641 Mask Aligner est un outil idéal pour la conception et la fabrication de circuits intégrés. Ses capacités d'imagerie ultra haute résolution et de placement de motifs en font un outil inestimable pour le développement de circuits de précision avancés. Il offre une plus grande flexibilité et précision que les systèmes de lithographie standard tout en assurant les plus hauts niveaux d'efficacité et de précision.