Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #293605029 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Aligner est un équipement de haute précision utilisé dans la fabrication de circuits intégrés à semi-conducteurs et de systèmes optiques intégrés. Le système est utilisé pour positionner avec précision un réticule sur un photomasque et pour aligner avec précision deux ou plusieurs couches de matériau de masque argenté et ainsi créer une structure à grande échelle de géométries et de complexité souhaitées. L'unité combine un alignement interférométrique laser, un moteur pas à pas de haute précision et des optiques d'imagerie pour obtenir une précision d'alignement inférieure à 0,15 μ m (à 10 σ) sur une plaquette de 450 mm et une zone réticulaire. La machine dispose d'un grand champ de vision personnalisable pour la nanofabrication et l'alignement de grands substrats et réticules, utilisant l'optique, un outil de chargement et d'échange de réticules et un scanner de film. Le champ de vision horizontal et vertical de l'actif est ± 30 mm pour les réticules et ± 200 mm pour les plaquettes, respectivement. Pendant ce temps, la plage des distances d'alignement est de 0,02 μ m - 5,6 mm, ajustée avec une résolution linéaire de 5 μ m. Le modèle est également bien équipé avec la technologie d'acquisition d'images, fournissant la capacité de créer des cartes répétables et précises de hauteur et d'alignement. Il stocke également les données de hauteur et d'alignement des pixels et prend en charge l'exportation de données vers des PC ou des bases de données externes. De plus, l'équipement permet l'intégration de sources laser multiples, l'alignement amélioré des photomasques, la vitesse de dépôt et la précision de recouvrement grâce à l'utilisation d'une combinaison d'imagerie visible et ultraviolette (UV). SVG 651HT est également conçu pour faciliter l'intégration d'algorithmes de correction avancés, y compris la correction auto-focus et la reconnaissance du centre de motif (COPR). Il offre des capacités d'auto-focus, d'alignement et de surveillance de la vie qui en font un choix idéal pour les processus de production avancés. Sa capacité d'échange automatisé de réticules permet un échange rapide et efficace de réticules et facilite les processus impliquant plusieurs réticules. Dans l'ensemble, ASML 651 HT Mask Aligner est un outil polyvalent et précis pour la fabrication de circuits intégrés semi-conducteurs et de systèmes optiques intégrés. Il dispose d'une large gamme d'options de distance d'alignement, d'un grand champ de vision et d'une large gamme de technologies d'imagerie et d'algorithmes de correction pour garantir la précision et l'efficacité.