Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9399540 à vendre en France
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ID: 9399540
Mask aligner
HG Lamp uniformity high: >13%
Scan speed low: 0.34"/s
Frequently unit: Arm stuck
Reworked unit: Assembly gear unit
Motor and gear assembly
Vacuum cups
Air gauge: Auto focus calibration
Offset evaluation: Nozzle
OPC 121: 480 µm
Wafer screws adjustment: 89 cm, -34cm, 163cm
OPC 122: -2.1 µm
Focus coarse adjustment:
OPC 11: -9.5 µm
0.7µm/cm -0.1µm/cm
Open slit unit: 4.9% (13%)
Scan speed: 0.55”/s - 1.045"/s
Input elevator (Height and flag adjustment)
PCB Labelled: Right and left hand card cage
Parameter: OPC 240: -4PPM, 2304: 0 -0.25, -0.1 µm.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT est un aligneur de masque haute performance conçu spécifiquement pour les applications de pas de plaquettes à très haut débit. Il dispose d'un microcontrôleur embarqué basé sur le processeur Pentium, ainsi que d'un contrôleur de mémoire intégré haute vitesse et d'un port de communication série haute vitesse. SVG 651HT offre une variété de caractéristiques, y compris un mécanisme d'alignement optique à grande vitesse qui garantit un alignement précis des masques et des substrats. Le mécanisme est constitué de deux positionneurs montés sur deux étages indépendants, le premier étant utilisé pour l'imagerie rapide et le second pour le réglage fin. Les optiques finement ajustées de l'ASML 651 HT contribuent à réduire significativement les temps d'exposition. L'alignement à deux étages intégré dans 651HT comprend également une plate-forme d'imagerie au microscope unique, permettant une multitude de configurations de masques et de substrats. Le microscope est équipé d'un protecteur antistatique pour empêcher les particules de se fixer au mandrin électrostatique sensible, et l'équipement d'imagerie est suffisamment sensible pour détecter même les caractéristiques d'un micron sur une plaquette. 651 HT dispose de capacités d'autofocus haute performance qui lui permettent de détecter, mesurer et recentrer en permanence la plaquette à moins d'un micron. Le système dispose également d'une plate-forme intégrée d'alignement de haute précision, qui permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement un grand nombre d'expositions complexes sans recalibrage long. La plateforme logicielle flexible de PERKIN ELMER 651 HT permet également aux utilisateurs d'explorer une variété de paramètres prédéfinis ou personnalisés. Une fonctionnalité puissante comprend la capacité de déplacer la zone d'exposition pour améliorer le contrôle de la lithographie et optimiser les cycles de production des appareils. L'ensemble peut être facilement exploité via une interface de commande texte. SVG 651 HT a été conçu pour les processus d'exposition à faible fixation, et son boîtier scellé aide à prévenir la contamination de l'optique. En outre, son corps robuste est construit à partir de matériaux de haute qualité résistant à la température et est également résistant aux chocs, capable de résister aux vibrations élevées et aux chocs ESD. SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT est une machine pas à pas de plaquettes fiable et efficace, capable de réaliser des processus de lithographie difficiles et précis, même à des vitesses et des débits élevés. La conception très avancée permet à ASML 651HT d'offrir des performances et une précision toujours élevées dans un large éventail de processus d'exposition complexes, ce qui en fait un excellent outil pour la production lithographique à grande vitesse.
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