Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 HT #293765674 à vendre en France

ID: 293765674
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6" Loadlock cassette type: M500/600 No SMIF Cassette stage: 150 mm Wafer mapping Optical sensor Blower OS-2000 Controller Air cooler: 39,000 BTU Wafer fluoroware cassettes: 150 mm Electronic motorized carousel arm Pellicle protection mask cassette system Cassette and carrier round mask: 7.25" Life mask X, Wafer X and Pre-aligner anchor flexures Optical: High-Throughput coated optics (HT) UV4 Filter and narrow band secondary Integrated uniformity tester Automated Uniformity Testing (AUDIT) Focus / Viewing / Mag: Air guage focus system Extented life gauge head flexure Automatic Variable Magnification (AVM) Brightfield and darkfield viewing Gas scan Power supply: 220 VAC, 3 Phase.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 HT est un aligneur de masque de haute précision conçu pour les applications de lithographie IC. Cet alignement de masque avancé est doté d'une architecture d'alignement avancée avec une précision de 1,2 μ m. SVG 661 HT dispose également d'un équipement optique ultra haute résolution avec une taille minimale de 12 μ m. En outre, ASML 661 HT dispose d'une large gamme de fonctions d'imagerie, y compris 4x binning, defocus control, et un système d'éclairage multiple. Ces fonctions d'imagerie permettent un alignement rapide et précis des masques IC dans le traitement des semi-conducteurs. 661 HT utilise une conception intégrée de quatre points de haute précision qui assure des alignements précis et reproductibles. Cette conception comprend également des autofocus et des fonctions de numérisation et de maille à plusieurs niveaux qui aident à automatiser le processus d'alignement du masque. PERKIN ELMER 661 HT offre également de puissantes fonctions de traitement d'image telles que la binarisation, l'amélioration du contraste et l'affûtage des bords. Ces fonctions permettent d'optimiser davantage la qualité de l'image et la précision de l'alignement. SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 HT est également équipé d'un étage mécanique SSMB (Scanning Stage Movement Block) à haute vitesse et à faible dérive pour un alignement précis du substrat. Cet étage est entraíné par un moteur sans balais et a une résolution de pas maximale de 0,1 μ m. SVG 661 HT dispose également d'une unité d'éclairage haute puissance avec puissance de sortie laser variable et paramètres laser réglables. Cette machine permet aux utilisateurs de réduire le temps d'exposition et d'augmenter l'uniformité de l'exposition du substrat. Pour améliorer encore la polyvalence de l'ASML 661 HT, l'outil est équipé d'un logiciel icontrol en option. Ce programme permet de contrôler les fonctionnalités de 661 HT et ses nombreuses fonctions d'alignement. Le logiciel icontrol fournit également des outils graphiques pour l'alignement et l'imagerie. Les caractéristiques supérieures de PERKIN ELMER 661 HT, associées à sa précision et à sa capacité exceptionnelles, en font un outil idéal pour les applications avancées de lithographie IC.
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