Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 HT #293811482 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 HT masque aligner est un outil entièrement présenté conçu pour la production de masques de photolithographie avancés. Cet alignement de masque combine la puissante suite logicielle SVG avec des composants de pointe pour fournir des résultats exceptionnels dans un large éventail d'applications. L'équipement est équipé d'un moniteur de résolution 2048 x 2048 et d'un système d'automatisation avancé qui assure un alignement fiable des étapes de mise à pied. En outre, une puissante unité optique est incluse, ce qui permet un transfert de motifs sur le film ajouré avec une précision inégalée. Afin d'obtenir des résultats optimaux, SVG 661 HT masque aligner dispose d'une machine d'alignement optomécanique haute résolution qui est capable de localiser avec précision le photomasque pour chaque exposition face à face. Cela garantit un mouvement minimal hors axe et une grande planéité, ce qui est finalement essentiel pour réussir le transfert de modèle. L'outil comprend également un outil de mesure de pression haute résolution, qui peut détecter toute pression appliquée avec une extrême précision. En termes de précision de positionnement, l'alignement de masque ASML 661 HT est capable d'obtenir une tolérance extrêmement serrée. Il offre une répétabilité X-Y aussi faible que 0,0005mm/100 μ m, ainsi qu'une répétabilité en Z de 0,7nm/100 μ m. De plus, le modèle fournit une variété de fonctions de ciblage et de focalisation de pointe, qui permettent une intégration efficace avec les étapes de processus existantes et les tâches courantes. En outre, des caractéristiques telles que le décalage XY et l'alignement des trous permettent une complexité accrue dans le transfert de motifs. 661 HT masque aligner est réputé pour ses résultats fiables, mais ce n'est possible que grâce à ses composants avancés. L'équipement est alimenté par une technologie de pointe de puce pour assurer une reproductibilité maximale du processus. De plus, cet alignement de masque utilise une couche épaisse de caoutchouc polyuréthane, ce qui réduit considérablement les vibrations et améliore la clarté de l'image. En conclusion, l'alignement de masque PERKIN ELMER 661 HT est l'option ultime pour la production de masques de photolithographie. Son alignement optomécanique avancé, ses mesures de pression à haute résolution et ses capacités de tolérance étroites garantissent des résultats optimaux dans un large éventail de tâches. En outre, le système est alimenté par la technologie de pointe des puces et des composants robustes, offrant une fiabilité maximale.