Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9003993 à vendre en France
URL copiée avec succès !
SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 est un aligneur de masque, qui est un type de machine utilisé pour effectuer la lithographie. Il est conçu pour être un appareil précis, efficace et rentable qui peut être utilisé pour diverses tâches lithographiques. Le masque aligneur SVG 661 a une conception linéaire qui rend l'appareil petit et compact, tout en fournissant précision et précision. Il peut atteindre 5 000 nm avec une erreur de +/- 1,0 nm pour l'alignement en 3 dimensions (3D) et +/- 0,5 nm pour l'alignement en 2 dimensions (2D). Il est également capable de régler la position de l'étage sans l'utilisation de paliers à air, ce qui signifie qu'il peut maintenir un haut niveau de précision même lors du réglage de l'étage. L'ASML 661 dispose d'un équipement avancé de source lumineuse qui utilise des lasers à diodes de 940 nm, et peut être utilisé pour exposer des plaquettes jusqu'à 100mm de taille. Il dispose également d'un système de contrôle qui peut être personnalisé en fonction des besoins du client. Par exemple, l'unité peut être programmée avec des algorithmes propriétaires afin de maximiser l'efficacité sans sacrifier la précision. Le dispositif dispose également d'une machine d'alignement entièrement automatique qui peut facilement détecter et visualiser le masque sur la plaquette. L'alignement utilise également un alignement sur plaquette en option qui permet à l'utilisateur d'effectuer des réglages de niveau micromètres et nanomètres sans avoir besoin de faire tourner manuellement l'étage. Enfin, 661 aligneurs de masques sont également équipés d'un moniteur de contamination, qui avertira l'utilisateur si l'outil est contaminé par de la poussière ou des débris. Cette fonctionnalité permet de s'assurer que l'appareil reste propre et fournit des résultats de haute qualité. L'alignement de masque PERKIN ELMER 661 est un appareil avancé qui offre une vitesse, une précision et une efficacité accrues. Il peut être utilisé pour diverses tâches lithographiques, et ses caractéristiques avancées permettent d'obtenir des résultats plus précis.
Il n'y a pas encore de critiques