Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9107715 à vendre en France

SVG / PERKIN ELMER / ASML 661
ID: 9107715
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6".
SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 masque aligner est un outil utilisé pour aligner avec précision des motifs sur des couches minces avec une grande précision. Il est principalement utilisé pour les procédés de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. SVG 661 dispose d'un moteur pas à pas haute résolution et d'un système de positionnement d'outil intégré, permettant un alignement précis des motifs jusqu'à des niveaux inférieurs à microns. ASML 661 a un cadre robuste et une base stable, ce qui le rend très précis dans l'alignement de précision des motifs sur les films. Avec sa capacité à atteindre des niveaux arbitraires de fréquence de motif, 661 est bien adapté pour la nanofabrication de haut niveau. Avec une répétabilité élevée, PERKIN ELMER 661 est également adapté pour produire plusieurs motifs sur un seul film. SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 utilise un viseur optique pour aligner le motif. Il a une étape de traduction intégrée, qui permet un mouvement précis et répétable à travers le motif à aligner. L'alignement du masque présente également un axe Z pour le réglage de profondeur. L'étage peut être configuré précisément pour avoir atteint des niveaux de profil extrêmement bas lorsque nécessaire. De plus, SVG 661 dispose d'un système d'étanchéité des bords, qui assure une étanchéité étroite entre le film et le substrat, ainsi qu'une liaison adhésive forte. L'ASML 661 est équipé d'un design modulaire et peu entretenu, ce qui le rend facile à utiliser avec un minimum de temps d'arrêt. Il est également conçu avec des caractéristiques de sécurité telles que les interrupteurs de panne au sol (GFI) et les interrupteurs de secours. En outre, il dispose d'un système optique à haute sensibilité qui est idéal pour les inspections pendant les opérations. Globalement, SVG Mask Aligner 661 est un outil d'alignement polyvalent parfait pour des processus d'alignement précis et reproductibles dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses caractéristiques le rendent idéal pour créer des motifs de nanofabrication précis et sa conception modulaire le rend fiable et facile à utiliser. En outre, ses caractéristiques de sécurité assurent la protection lors du travail avec l'appareil. En tant que tel, ASML Masque Aligner PERKIN ELMER 661 est un excellent outil pour une variété d'applications.
Il n'y a pas encore de critiques