Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9210321 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 est un outil avancé d'alignement de plaquettes conçu pour l'enregistrement et la superposition de masques de haute précision lors de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement combine la précision de la lithographie SVG e-beam avec la précision de l'imagerie optique de projection ASML. La SVG 661 comprend des options de passage simple et double, permettant aux utilisateurs de choisir le degré de précision d'alignement requis. Le système d'alignement des plaquettes de type pas à pas utilise une interface utilisateur graphique avancée (UI) pour déterminer rapidement l'alignement exact des motifs prédéfinis sur le substrat. ASML 661 comprend également une unité de reconnaissance de la parole qui ajuste automatiquement les paramètres et aligne les substrats à des positions prédéfinies. La machine dispose d'un ensemble optique haute résolution, d'un outil d'imagerie et d'un étage de précision. L'optique est utilisée pour visualiser la surface de la plaquette et s'assurer que tous les points d'alignement sont alignés avec précision et dans la plage autorisée. L'actif d'imagerie est composé d'une source de faisceau d'électrons de moyenne énergie et d'une source de faisceau d'électrons de faible énergie. Le faisceau de faible énergie est utilisé pour la caractérisation afin de détecter les défauts du substrat avant le processus de lithographie du faisceau électronique. L'étape de précision de 661 consiste en un axe X, Y et Z permettant des mouvements précis lors de la lithographie e-faisceau et de l'enregistrement de motifs. L'étage comprend également une sonde asservie et un axe de mouvement fin. Le mouvement fin permet des corrections rapides et précises en position lorsque nécessaire. PERKIN ELMER 661 a un débit élevé et une grande précision, avec une répétabilité de recouvrement jusqu'à 3,5 nanomètres. Le modèle comprend également un outil d'inspection automatique pour assurer la fiabilité de l'enregistrement et de la superposition, ainsi que l'enregistrement automatique de toutes les formes et caractéristiques lithographiques imprimées. SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 est compatible avec une large gamme de photomasques et de matériaux de substrat, et convient à diverses applications, y compris la microélectronique, les écrans et les composants MEMS. Cet équipement est idéal pour les fabricants de semi-conducteurs et les intégrateurs de dispositifs qui recherchent un alignement rapide et précis de motifs complexes sur les plaquettes.