Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 664 HT #9165930 à vendre en France
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SVG/PERKIN ELMER/ASML 664 HT Masque Aligner est un outil d'alignement de pointe utilisé pour les procédés de microfabrication. C'est un équipement de lithographie hybride qui combine la photolithographie (alignement du masque) avec la lithographie du faisceau d'électrons (balisage) pour le balisage submicronique des matériaux. SVG 664 HT Mask Aligner est un système de table semi-automatique qui utilise un étage de traduction X-Y et deux étages rotatifs pour l'alignement fin des masques à motifs avec le substrat. Un microscope inversé sur l'appareil permet à l'utilisateur de confirmer visuellement l'alignement et la position du motif. Une précision d'alignement supérieure à 4 µm dans ± 90 ° et une précision angulaire de 3 ° sont typiques lorsque vous utilisez ASML 664 HT Mask Aligner. La machine comprend une section séparée de traitement du faisceau d'électrons avec trois colonnes. La colonne d'écriture du faisceau d'électrons est constituée d'un module de commande, d'un détecteur de plaques de microcanaux, d'une lentille de projection et d'un étage d'alignement X-Y. Un module de contrôle séparé de la distance de travail permet d'ajuster le positionnement vertical de l'échantillon et du masque. La colonne de faisceau E peut être utilisée pour des applications telles que la lithographie de faisceau d'électrons, l'écriture de résistance ou la réparation de motifs. L'outil est équipé d'une source lumineuse avec une source de lumière à fente pour différentes tailles et tailles de taches. Il convient à l'utilisation de masques couramment utilisés comme les masques chromés avec mode de transmission et de réflexion. La conception intégrée permet un alignement rapide et efficace du masque pour le marquage de précision. Les masques à motifs peuvent être chargés sur 664 HT avec un atout de projection d'image numérique. L'utilisateur peut charger des images du masque sur le modèle et le masque est alors aligné automatiquement. Une fois bien aligné, le masque peut être scellé avec un revêtement antireflet. PERKIN ELMER 664 HT offre également des fonctionnalités d'automatisation avancées telles que la sélection automatisée de masques, la numérisation focale et l'optimisation de l'alignement. L "équipement permet un travail rapide et précis avec des résultats de très haute résolution. SVG/PERKIN ELMER/ASML 664 HT est un système polyvalent et fiable d'alignement masqué et de lithographie qui fournit une plate-forme de précision pour de nombreuses applications avancées de lithographie. Avec son large éventail de caractéristiques et sa facilité d'utilisation, SVG 664 HT est le choix idéal pour les laboratoires de haute technologie et les installations de fabrication.
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