Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 751 HT #293615179 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML 751 HT est un alignement de masque pour la lithographie de la couche de couverture et de la couche de contact. La machine utilise un environnement à vide ultra-élevé et des optiques d'exposition pour obtenir une précision de sous-micromètre, ce qui est la taille minimale que l'équipement peut reproduire. Le temps d'exposition au contact est réglable de 2 à 200 ms, tandis que le temps d'exposition de la couche de couverture est réglable de 5 à 500 ms. De plus, le système a auto focus, stigmate et auto exposition pour assurer un alignement optimal, exposition et focus pendant le processus de lithographie. SVG 751 HT aligner a une unité source double pour la couche de couverture et la couche de contact. Il dispose d'un mandrin de 300 mm avec des fentes pour le couvercle et les porte-masques de contact, et est équipé d'un porte-écoutilles de 300 mm capable de manipuler de grands volumes de substrats. La plaquette est en contact avec un vide précis. Cela empêche la plaquette de se déplacer et assure un alignement précis lors de l'exposition. La machine est équipée d'optiques de projection à base de quartz qui ont maintenu un haut débit, un faible bruit et une faible obsolescence thermique. En plus de l'optique à quartz, la machine dispose également d'un obturateur de cadre avec une vitesse réglable, ce qui permet à l'utilisateur de contrôler les temps d'exposition et la puissance pendant la lithographie. La lentille d'aplatissement aide en outre à maintenir un champ plat pendant le processus d'exposition. ASML 751 HT dispose d'un outil de contrôle automatisé des processus qui utilise les progrès du traitement électronique de l'image et du contrôle robotique. Cela permet un alignement précis et des résultats d'exposition répétables. Il offre également à l'utilisateur une flexibilité de fonctionnement qui lui permet d'exécuter différents processus d'exposition sans observation manuelle ni correction. La machine dispose également d'un outil avancé de manutention de substrat qui utilise des serrures de charge, des cages en plaquettes et la suppression des vibrations de base pour assurer un environnement de salle blanche et aider à prévenir la contamination des particules. Le moniteur de particules en ligne en option permet à l'utilisateur de surveiller et de contrôler la contamination du substrat. Les conditions de fonctionnement du PERKIN ELMER 751 HT sont surveillées au moyen d'une série d'alarmes et d'autres relevés. Ces alarmes permettent à l'utilisateur d'être immédiatement informé de tout changement ou problème pouvant affecter l'exactitude ou l'intégrité du processus de lithographie. Cela permet à l'utilisateur de régler rapidement tout problème et de minimiser tout dommage potentiel. 751 HT est un aligneur de masque très précis, économique et fiable conçu spécifiquement pour l'industrie des semi-conducteurs. Il permet aux utilisateurs de produire des lithographies de la plus grande précision et précision tout en offrant un environnement de travail sûr et contrôlé avec un minimum d'entretien requis.