Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML 761 HT #9265344 à vendre en France

SVG / PERKIN ELMER / ASML 761 HT
ID: 9265344
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2003
Mask aligners, 6" 2003 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 761 HT est un aligneur de masque utilisé en photolithographie pour la fabrication de circuits intégrés. L'équipement dispose d'un laser ultra-violet (DUV) de courte longueur d'onde et d'un portique à six axes conçu pour manipuler et aligner une grande variété de substrats et de masques flexibles. SVG 761 HT offre une précision et une précision d'alignement élevées sur une large gamme de tailles et de champs de vision et une gamme de fonctionnalités automatisées pour faciliter des expériences rapides et fiables. ASML 761HT permet la fabrication de circuits intégrés d'une taille minimale de 0,3 micron dans une grande variété de dimensions. Il comporte un portique à 6 axes, où les axes « X », « Y » et 3 axes angulaires sont utilisés pour aligner précisément le masque et le substrat. ASML 761 HT dispose également d'un laser spot de 19 microns qui est utilisé pour aligner le masque et le substrat. Le système dispose également d'une lentille amovible TTL qui peut être échangée en fonction de la taille de la fonctionnalité requise. La table d'alignement en 4 positions permet une configuration rapide et précise du substrat et du masque. L'électronique d'asservissement en boucle fermée de l'unité fournit un contrôle et une rétroaction précis au portique, lui permettant de se déplacer avec une précision et une répétabilité élevées. De plus, SVG/PERKIN ELMER/ASML 761HT peut être utilisé sous vide ou à l'air, ce qui permet une flexibilité pendant la configuration et le fonctionnement. La machine SVG 761HT utilise une méthode LAM (Laser Alignment Marking), utilisée pour déterminer l'enregistrement des moules de masque et la topographie des substrats. Le LAM est composé d'une exposition par masque ligne par ligne suivie d'une exposition secondaire comprenant une exposition laser qui marque le substrat. Le laser expose la zone que le masque ne bloque pas - offrant ainsi un alignement plus précis que les méthodes traditionnelles. 761HT comprend également un outil de vision à haute résolution pour les tâches d'alignement macro. Cet atout utilise un modèle d'optique télécentrique et des détecteurs CCD très sensibles pour garantir la précision et la précision. L'équipement peut détecter et aligner jusqu'à 128 points de référence, ce qui permet des expériences rapides et fiables. En outre, PERKIN ELMER 761HT comprend également plusieurs caractéristiques de sécurité. Le système dispose de rideaux légers pour la sécurité de l'opérateur et d'une unité de nettoyage automatisée pour réduire la poussière et les débris sur les composants d'usinage. En outre, la machine comprend une fonction de diagnostic automatisé de fin d'exécution pour suivre les performances et alerter les opérateurs de tout problème. 761 HT est un outil idéal pour les applications de photolithographie qui nécessitent une grande précision et précision. Il offre un large éventail de fonctionnalités et de fonctions pour faciliter des expériences rapides et fiables.
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