Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 240 #128860 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 240 est un aligneur de masque de haute précision utilisé pour les applications de photolithographie dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le masque aligneur est équipé d'une gamme de caractéristiques qui assurent l'alignement précis et précis des photomasques pour les besoins de la fabrication du dispositif. SVG Micralign 240 dispose d'une résolution de 0,2 micron, garantissant que les appareils qui intègrent des motifs exposés avec cet équipement auront la plus grande précision possible. Ce système permet également d'introduire des coins d'angle dans le processus d'alignement, permettant de créer des motifs plus complexes avec précision. L'aligneur ASML Micralign 240 comporte deux groupes de lentilles réglables, dont l'un est monté sur un étage X pour un positionnement de haute précision, et un groupe de lentilles fixes sur un axe Z. Chaque groupe de lentilles dispose de boutons de commande de focalisation et d'alignement séparés pour permettre un alignement précis. Une fois qu'une position cible est atteinte, l'utilisateur peut s'assurer que le masque est maintenu en sécurité à l'aide d'un vide, assurant un transfert précis du motif sur le substrat. PERKIN ELMER Micralign 240 unité d'alignement de masque comprend également une étape de lithographie. Cette étape dispose d'une gamme de capacités d'éclairage et d'exposition réglables qui améliorent la vitesse et la précision de placer avec précision des motifs de photomasques complexes sur le substrat. Pour s'assurer que l'alignement est maintenu aussi précis que possible, Micralign 240 dispose d'un certain nombre de techniques avancées, y compris l'autofocus, la métrologie post-exposition, l'auto-correction et la compensation des aberrations des lentilles. La précision de niveau micron de SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 240 permet la fabrication de composants électroniques semi-conducteurs plus fiables et de meilleure qualité que ce qui peut être réalisé avec les systèmes de photolithographie classiques. Grâce à l'alignement précis et aux caractéristiques de surchauffe et de faible tolérance du SVG Micralign 240, il est possible de garantir la plus haute qualité et de contrôler les processus essentiels à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs de précision. ASML Micralign 240 est une machine polyvalente et évoluée capable de produire des motifs complexes et précis. Son alignement de haute précision et sa gamme de caractéristiques avancées garantissent une structure et des performances de haute qualité pour le produit final.