Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 600 #9357224 à vendre en France

SVG/PERKINELMERSVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 600 Mask Aligner est un équipement entièrement automatisé, haute performance, d'alignement qui est utilisé pour des applications de photolithographie hybride. C'est un système de lithographie qui utilise une unité de projection multi-longueurs d'onde pour projeter des motifs ou des formes optiquement enregistrés d'un photomasque sur un substrat. Ceci permet la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haute précision. L'alignement automatisé et les performances de fixation rapide rendent la machine idéale pour des applications telles que la production de circuits industriels, la production de dispositifs médicaux et la fabrication de puces semi-conductrices. Le moteur de l'outil est un atout de projection à double longueur d'onde. Il permet d'éclairer simultanément plusieurs points de référence situés sur le masque et le substrat. Les photomasques sont montés sur un étage d'alignement à 6 axes qui permet un alignement rapide et précis des motifs de masque sur le substrat. Il utilise une approche tridimensionnelle d'alignement de premier principe, de sorte qu'un alignement précis est réalisé en tout point du substrat. Le modèle comprend des disques piézo-étages de précision, capables de fournir une précision de positionnement de 1 micromètre ou mieux. Le SVG Micralign 600 comprend une source de mesure de haute précision, un éclairage cohérent et un interféromètre laser de pointe pour affiner l'échelle et la résolution des motifs. La combinaison de toutes ces caractéristiques permet d'améliorer considérablement la précision de l'enregistrement par rapport aux aligneurs existants. Il est équipé d'une variété d'accessoires et de logiciels optionnels pour la génération de données de modèle, l'alignement et l'analyse. Ces composants de système optionnels permettent une mise en oeuvre très précise d'applications telles que la métrologie, l'alignement de recouvrement, l'inspection des défauts, l'analyse des résidus d'impression, etc. ASML/PERKINELMERASML Micralign 600 Mask Aligner est une unité avancée et efficace qui fournit une précision fiable pour les applications de photolithographie exigeantes.