Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 640 #128871 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 640 est un aligneur de masque sophistiqué équipé de fonctionnalités avancées qui facilitent l'alignement précis et répétable des motifs de lithographie électron-faisceau sur une variété de substrats. Cela permet aux fabricants de fabriquer avec précision des composants de circuits au niveau des sous-microns, avec des niveaux de précision et de répétabilité inégalés. Le composant principal de SVG Micralign 640 est son équipement d'imagerie haute résolution. Ce système combine un microscope optique avancé, équipé de capacités normales et trans-éclairantes, et un étage de direction piloté par ordinateur. Le microscope optique fournit une image de champ lumineux, ce qui permet à l'utilisateur de visualiser avec précision le motif de lithographie sur le substrat. L'étage de direction est précisément aligné et réglé contre le substrat, contrôlant avec une grande précision le positionnement relatif du masque et du substrat. L'unité est également équipée d'une source lumineuse avancée, conçue pour s'assurer que le motif de lithographie est éclairé avec précision en tout temps. Cette machine comprend une source lumineuse UV de haute puissance, un réseau de distribution d'énergie et un ensemble de lentilles et de miroirs. Les lentilles et les miroirs sont stratégiquement placés pour maximiser l'uniformité de l'éclairage à travers le substrat. L'ASML Micralign 640 est également équipé d'un ensemble d'éléments de positionnement à commande de précision. Ces éléments permettent aux utilisateurs d'ajuster avec précision la position du masque par rapport au substrat. PERKIN ELMER Micralign 640 est également équipé d'un outil de contrôle avancé, qui permet aux utilisateurs de programmer et de stocker plusieurs mises en page de masques lithographiques. Il est ainsi facile de repositionner rapidement le masque par rapport au substrat, ce qui permet des modifications rapides sans perte de précision. Micralign 640 est un outil puissant et précis conçu pour faciliter la production efficace et l'alignement des composants de microcircuiterie. Ses éléments avancés d'imagerie, de source lumineuse et de positionnement permettent aux utilisateurs d'aligner avec précision et de façon répétée les motifs de lithographie sur divers substrats, assurant des résultats supérieurs et un contrôle de la qualité.