Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 651HT #9399549 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 651HT Mask Aligner est un appareil entièrement automatique et commandé par ordinateur conçu pour la production photolithographique de dispositifs microélectroniques. Il est capable d'aligner une variété de matériaux de masques de photolithographie, allant des masques à couches minces aux masques gravés de précision. L'équipement se compose d'une tête d'alignement de masque, d'un étage d'échantillonnage, d'un système d'alignement laser et d'un dispositif d'émission de lumière, qui projettent un faisceau laser sur l'échantillon. SVG Micralign 651HT offre une haute résolution et un alignement à grande vitesse des substrats. Son unité d'alignement bidimensionnelle offre une résolution maximale de 4µm dans les axes X et Y et ± 2 arcsecondes d'inclinaison. Il utilise l'alignement laser avec une machine de pointage, un outil optique à faisceau d'électrons, et optique de cible visible, et a une précision d'alignement de +/- 2 microns ou mieux. De plus, le 651HT offre un alignement à grande vitesse, avec aussi peu que 30 secondes nécessaires à la fixation sur un substrat. Le Micralign utilise des bibliothèques virtuelles d'alignement, qui permettent aux utilisateurs de déplacer rapidement les substrats et les masques vers la position cible dans les axes X et Y. Ce processus s'accompagne d'un alignement proche du champ, ce qui réduit les risques de désalignement en reconnaissant les erreurs de position et en les corrigeant. L'aligneur est capable de maintenir des substrats jusqu'à 200mm de diamètre, avec une épaisseur de substrat jusqu'à 6mm. Il est également capable d'accueillir une large gamme de masques, des masques à couches minces aux masques gravés de précision plus complexes. En outre, le 651HT supporte à la fois des systèmes d'alignement de contacts doux et durs, ce qui signifie que les masques peuvent être alignés soit sur le bord du substrat, soit contre la surface plane. Cet atout est conçu pour un fonctionnement à haut débit, et sa robotique à commande pneumatique permet des temps de navette rapides entre les lignes de base parallèles. Pour plus de commodité, l'alignement est également compatible avec les logiciels et bases de données standard de l'industrie, ce qui facilite la connexion de plusieurs systèmes avec un contrôle centralisé. En résumé, ASML Micralign 651HT est un excellent choix pour la production de photolithographie à structure fine de dispositifs microélectroniques. Il offre une résolution élevée, un alignement rapide et est compatible avec une large gamme de masques. Ses bibliothèques d'alignement virtuelles réduisent le désalignement, tandis que sa robotique à commande pneumatique fournit un modèle efficace et à haut débit.