Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 700 #293618523 à vendre en France

SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 700
ID: 293618523
Taille de la plaquette: 6"
Mask aligner, 6".
SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 700 est un aligneur de masque de haute précision utilisé en photolithographie pour la fabrication précise de plaquettes VLSI. SVG Micralign 700 dispose d'un contrôle galvanométrique de pointe et d'un enregistrement précis et reproductible pour une précision d'alignement exceptionnelle. Conçu pour une productivité et une flexibilité maximales, l'équipement offre une large gamme de fonctions et de capacités pour répondre aux exigences exigeantes des applications de production et de recherche. Ce masque aligneur est conçu pour être un outil précis, fiable et rapide pour créer des motifs complexes sur une plaquette semi-conductrice. L'unité de balayage galvanométrique à deux axes du système permet l'enregistrement rapide et précis de jusqu'à 500 marqueurs d'alignement. Il peut également accueillir jusqu'à cinq masques flexibles et plats à la fois. Avec son enregistrement rapide, précis et répétable, l'ASML Micralign 700 simplifie et accélère les opérations de masquage. Micralign 700 est également équipé d'une machine à lentille automatisée qui ajuste rapidement et avec précision l'optique pour un alignement optimal lors du passage du masque au masque. Il dispose également d'un outil d'imagerie haute résolution pour inspecter les alignements et identifier les désalignements de sous-microns ainsi que d'un interféromètre laser de haute précision pour mesurer et corriger les petites variances de l'actif. Le modèle dispose de plusieurs caractéristiques clés qui en font un excellent choix pour la photolithographie à semi-conducteur, y compris un laser transversal à grande vitesse pour un alignement précis, une interface utilisateur intuitive qui offre une facilité d'utilisation intuitive, et un équipement mécanique qui fournit une précision et une répétabilité optimales. En résumé, PERKIN ELMER Micralign 700 est un adaptateur de masque puissant, de haute précision et de haute précision conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il dispose d'un scanner galvanométrique à deux axes pour l'enregistrement rapide, d'un système d'imagerie haute résolution pour l'inspection de l'alignement et d'un interféromètre laser de haute précision pour mesurer et corriger les petites variances d'alignement. Avec ses caractéristiques avancées, il est un excellent choix pour obtenir un alignement fin et une précision de circuit.
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