Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 700 #293827389 à vendre en France
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SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 700 est un aligneur de masque automatisé utilisé dans la production de circuits microélectroniques. Utilisant la technologie de lithographie de haute précision, SVG Micralign 700 est conçu pour aligner et exposer avec précision les photomasques à un substrat permettant de placer avec précision de minuscules composants utilisés dans la fabrication de circuits intégrés, MEMS et autres dispositifs microélectroniques. ASML Micralign 700 offre un contrôle précis d'une gamme de paramètres de lithographie, y compris X, Y et Z étages, équipement d'alignement OHT, système optique, auto focus, alignement mécanique de la boîte miroir, résolution submicronique haute résolution ; et comprend des techniques avancées d'analyse d'images pour améliorer la vitesse, la précision et la rentabilité de la microlithographie. PERKIN ELMER Micralign 700 se compose de trois composants principaux : un étage, un contrôleur et un logiciel comprenant des outils de mesure et des outils d'analyse de données. L'étage est une plate-forme de positionnement de substrat, comprenant une unité de positionnement x-y-4 axes d'une très grande précision, un étage incliné fin pour l'alignement OHT et un ensemble de balayage vertical pour la résolution submicronique. Le contrôleur est une machine à base de PC hautement sensible qui permet aux paramètres personnalisables spécifiés par l'utilisateur de contrôler les paramètres d'exposition, les procédures d'alignement et les paramètres d'imagerie. Le logiciel est une suite d'outils de traitement et d'analyse d'images que l'utilisateur peut utiliser pour ajuster les paramètres d'alignement, contrôler les paramètres d'exposition et d'imagerie. Ces outils peuvent également être utilisés pour analyser des données telles que la rugosité du bord de ligne, la densité de puce et le débit. Micralign 700 offre une précision améliorée de moins de 5nm peut être atteint pour le mode d'exposition, avec un débit jusqu'à 50 wafers par heure. Il est également capable d'effectuer un alignement avec des programmes tels que la rugosité des bords de ligne (LER) et la dislocation des ondes, ce qui entraîne une uniformité des dimensions critiques (CD) et un rendement amélioré. De plus, l'étage peut également supporter le basculement des plaquettes, assurant une meilleure homogénéité des procédés et un meilleur contrôle des dimensions critiques. SVG/PERKIN ELMER/ASML L'alignement de masque Micralign 700 est un choix idéal pour la photolithographie pour de nombreuses industries nécessitant une technologie de lithographie de haute précision, telles que la microélectronique, l'automobile, la biomédicale et l'électronique grand public. SVG Micralign 700 permet aux organisations d'obtenir une performance, une rapidité, une précision et une rentabilité exceptionnelles.
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