Occasion SVG / PERKIN ELMER / ASML PE661 / PE700 #9186519 à vendre en France

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 Mask Aligner est un équipement de pointe conçu pour la production de photomasques et de plaquettes semi-conductrices. L'instrument dispose de deux systèmes optiques, l'un pour aligner des photomasques sur la plaquette et l'autre pour générer le motif de diffraction qui sera vu par la photomasque. Le système optique est composé d'un objectif de doublet télécentrique, d'un séparateur de faisceau dichroïque et de deux ensembles de miroirs coudés. SVG PE661/ PE700 dispose d'un champ de vision étendu (FOV) et d'un haut degré de précision dans les opérations d'alignement. Le FOV 800 × 800 μ m offre une résolution précise en temps réel de 5,4 μ m, tandis que le FOV 1350 × 1400 μ m offre une résolution de 6,6 μ m. L'instrument effectue des mesures de superposition de motifs, le développement de processus et les opérations d'inspection des plaquettes avec une précision inégalée. ASML PE661/ PE700 Mask Aligner est conçu pour la production à haut rendement de plaquettes semi-conductrices. Il est doté d'une optique avancée, d'une unité d'enregistrement, d'une étape d'alignement et d'un matériel de contrôle de mouvement multi-axes en attente de brevet. La machine peut optimiser la couture pour les motifs de grande surface, offrant des performances supérieures sur les applications d'alignement critiques. Il offre également des options de couture pour les carreaux, qui fournissent encore plus de précision. PERKIN ELMER PE661/ PE700 offre une gamme de capacités de manutention automatisée des plaquettes, y compris une pince à substrat, une unité de manutention des plaquettes, une installation de préalignement des plaquettes et un outil d'inspection des photorésistances. Il est également équipé de systèmes spécialisés d'alignement et d'optimisation de placement des plaquettes qui permettent une collecte et une analyse automatisées des données plus efficaces. De plus, PE661/ PE700 comprend des capacités d'étalonnage et de réglage avancées pour assurer la plus grande précision sur une large gamme de conditions de processus. SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 dispose également de plusieurs caractéristiques de sécurité uniques et avancées. L'instrument est conçu avec des mécanismes d'amortissement des vibrations et des systèmes de refroidissement qui évitent la surchauffe et la contamination de la chambre et de l'optique. La machine utilise également une dynamique de transmission contrôlée par ordinateur qui empêche les mouvements transitoires indésirables. Globalement, SVG PE661/ PE700 Mask Aligner est un instrument de précision conçu pour offrir un alignement très précis des photomasques sur les plaquettes dans des réglages de production à haut rendement. Sa gamme de composants automatisés de manutention des plaquettes, son optique avancée et ses caractéristiques de sécurité en couches améliorent sa précision et sa fiabilité pour garantir des résultats cohérents et de haute qualité.