Occasion TAKATORI NMC 1 #9132183 à vendre en France

TAKATORI NMC 1 est un aligneur de masque conçu pour aligner avec précision et précision les masques microfabriqués sur les substrats. Il est utilisé pour modeler des caractéristiques à haute résolution sur des substrats tels que des plaquettes Si et est capable de positionner et d'aligner jusqu'à six masques indépendants simultanément avec précision et précision jusqu'au niveau du sous-micromètre. NMC 1 utilise des techniques avancées d'imagerie optique et de traitement d'image pour l'alignement et le positionnement des masques sur les substrats. L'équipement d'imagerie est composé de plusieurs composants optiques dont un séparateur de faisceau, objectif, caméra CCD, et miroirs mobiles. Le séparateur de faisceau divise la lumière du dispositif d'alignement en deux chemins. Le premier chemin est utilisé pour éclairer un motif de référence sur le masque, tandis que le second chemin est utilisé pour capturer une image d'un motif identique sur le substrat. TAKATORI NMC 1 est capable de détecter de petites différences d'alignement en analysant la position relative des images capturées. Il ajuste alors automatiquement le mouvement des miroirs et du porte-masque pour aligner précisément le masque sur le substrat. La précision d'alignement du CMN1 est d'environ 50 nanomètres. Afin de maintenir ce niveau de précision, le système est équipé d'une unité de contrôle de l'environnement pour s'assurer que la température, l'humidité et les niveaux de pression restent stables pendant le fonctionnement. Le TAKATORI NMC 1 est également conçu pour être utilisé conjointement avec d'autres dispositifs tels qu'une source lumineuse, un contrôleur de mouvement et un mandrin à vide. La source lumineuse est utilisée pour éclairer le motif de référence sur le masque, tandis que le contrôleur de mouvement et le mandrin à vide peuvent être utilisés pour maintenir et déplacer le masque et le substrat afin d'assurer un alignement précis. En plus du positionnement précis et précis des masques sur les substrats, NMC 1 fournit également quelques caractéristiques supplémentaires telles que l'enregistrement des masques et la capacité à mesurer la distorsion des motifs des masques. Il dispose également d'un mode manuel de réglage manuel des paramètres d'alignement. Dans l'ensemble, TAKATORI NMC 1 est un alignement de masque avancé qui offre précision et précision jusqu'au niveau du sous-micromètre. Il est conçu pour être utilisé en combinaison avec d'autres dispositifs tels que des sources lumineuses, des contrôleurs de mouvement et des mandrins sous vide afin d'obtenir un alignement précis des masques microfabriqués sur les substrats. La machine de contrôle de l'environnement assure que la température, l'humidité et les niveaux de pression sont stables pendant le fonctionnement, tandis que des caractéristiques supplémentaires telles que l'enregistrement de masque et la mesure de la distorsion de motif permettent aux utilisateurs d'optimiser davantage les résultats.