Occasion TAMARACK 191 #9237954 à vendre en France

TAMARACK 191 est un aligneur de masque avancé utilisé pour le traitement et la production de circuits intégrés, où des couches de photomasques avec des motifs pour le câblage, transistor et autres motifs sont transférés sur une plaquette. 191 aligner utilise un équipement d'exposition pour son homogénéité de masque. Ce système se compose d'une source de lumière laser excimère au fluorure d'argon de 157nm, d'une unité d'imagerie, d'un étage de rotation et d'une machine d'alignement. L'outil d'exposition comprend un laser d'excimère Argon Fluoride de 157nm de longueur d'onde qui est utilisé pour générer de la lumière UV qui est utilisée pour exposer des photomasques à la plaquette. Le laser est un laser refroidi à l'air, à cavité froide avec une puissance d'impulsion 6kW, conçu pour produire une intensité lumineuse égale sur l'ensemble de la plaquette. L'actif d'imagerie comprend une lentille double multi-die avec une ouverture numérique de 0,50 et un algorithme d'auto-corrélation qui est utilisé pour comparer des motifs sur les photomasques à des motifs sous-jacents sur la plaquette. L'étage de rotation de taille moyenne permet à la plaquette de tourner à 360 degrés pour aligner les photomasques sur les motifs cibles sur la plaquette formée. L'étage est capable de mouvement très précis et peut se déplacer dans l'axe x et y avec précision et répétabilité. Le modèle d'alignement est chargé d'aligner ou de placer le motif photomasque avec le motif de la plaquette sous-jacente. Il dispose d'un algorithme avancé de transformation affine qui aide à placer avec précision chaque couche de photomasque sur la plaquette. TAMARACK 191 est un adaptateur de masque efficace et précis idéal pour la production de circuits intégrés en grand volume. Il est doté d'une intensité laser élevée, d'une précision d'imagerie et d'une précision d'alignement, ce qui le rend adapté à des procédés de fabrication complexes impliquant un grand volume de circuits intégrés.