Occasion USHIO UX-4440 #9364543 à vendre en France

USHIO UX-4440
Fabricant
USHIO
Modèle
UX-4440
ID: 9364543
Taille de la plaquette: 2"-6"
Aligners, 2"-6".
USHIO UX-4440 est un masque-aligneur conçu pour être extrêmement polyvalent et rapide pour les applications de nanofabrication. Il a un 4 champ d'alignement « x4 » qui est exact à 0,5 μm (les microns) y permettant de manipuler beaucoup de types de substrates. Il est équipé d'un étage de précision, de longue durée de vie et d'un étage de précision de palier à air, ce qui permet un alignement haute résolution et un débit élevé. Il dispose d'un algorithme avancé d'auto-focus fournissant la meilleure précision d'alignement et répétabilité et des temps d'analyse rapides. La machine dispose également d'une plate-forme basse vibration pour plus de précision et de stabilité. Une lampe au xénon UV parallèle de 10W est intégrée pour l'exposition et une plate-forme entièrement contrôlée par la température assure une exposition fiable et répétable des masques à quartz. Son contrôleur de mouvement numérique offre un fonctionnement à grande vitesse avec une précision répétable. Le système est également équipé de plusieurs options pour l'utilisateur, dont une capacité d'exposition multiple permettant de créer des masques efficaces et précis, une caméra d'alignement qui permet un alignement de haute précision du substrat, un étalonnage automatique de l'étage et un mandrin sous vide ultra-rapide. Le PC embarqué dispose d'une interface utilisateur graphique intuitive (interface graphique), donnant accès à tous les paramètres et fonctions de la machine. La machine offre également des utilitaires de transfert de motifs flexibles, ce qui la rend adaptée à des processus de fabrication et d'inspection plus complexes. Le système est également livré avec une bibliothèque de paramètres de processus utilisateur prédéfinis ou personnalisés qui peuvent être rapidement chargés et exécutés, ce qui rend le système facile à utiliser. USHIO UX 4440 est un masque-aligneur avancé et très précis qui peut fournir une précision, une répétabilité et un débit accrus dans les processus de nanofabrication. Sa flexibilité et sa facilité d'utilisation, combinées à ses capacités d'imagerie et d'alignement, en font un choix idéal pour les applications nécessitant une grande précision et des résultats fiables.
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