Occasion ELECTROMASK / TRE 251CC #9288863 à vendre en France

ID: 9288863
Pattern generator Stand alone With (3) microns Plate sizes: 3x3" to 8x10" Glass Step sizes: 0.395 x 0.395" Wave lengths: 365 nm and 405 nm used for Mercury arc lamps.
ELECTROMASK/TRE 251CC est un équipement de production et de production de masque de pointe conçu pour aider les fabricants et les fabricants à créer efficacement des photomasques destinés à diverses applications. Le système dispose d'un flux de travail prêt à la production avec une préparation avancée des données pour créer des photomasques détaillés et précis dans une grande variété de tailles, de matériaux et de formes. Il est équipé d'une unité de pulvérisation TRE 251CC, capable de déposer jusqu'à 100nm/s et d'une largeur de ligne la plus étroite de 20nm. Cela permet la gravure de précision des motifs de photomasques, créant des détails complexes pour les applications avancées. ELECTROMASK 251CC utilise des logiciels avancés de préparation et de manipulation de motifs pour créer une variété de masques, des formes personnalisées aux formes détaillées, permettant la création rapide de masques en une seule fois. Il utilise également un logiciel de gestion de masque qui aide à gérer la production et le workflow tout en réduisant les erreurs. De plus, la machine intègre une interface utilisateur web pour l'accès et l'utilisation à distance, permettant le contrôle à distance de la production. 251CC dispose également d'une puissante source d'énergie hyperfréquence qui est capable de générer jusqu'à 1000 watts de puissance et d'un affichage numérique pour accélérer les vitesses de gravure et de dépôt. Il dispose d'un outil optionnel de métrologie en ligne qui peut être utilisé pour assurer des motifs précis, ainsi que d'une source multi-vide pour le contrôle de gravure et l'uniformité. En outre, la conception modulaire de l'actif permet une installation et un entretien faciles. Dans l'ensemble, ELECTROMASK/TRE 251CC est une solution de production et de génération de masques innovante et robuste. Ses caractéristiques avancées, notamment son taux de dépôt très précis, ses capacités précises de gravure et de préparation de motifs, et ses conceptions logicielles et d'interface utilisateur de pointe, en font un choix idéal pour une production de masque de haute qualité. Les fabricants et les manufacturiers peuvent profiter de sa facilité d'utilisation et d'accès à une technologie de pointe, leader de l'industrie, les aidant à optimiser leurs processus de production et à rendre la production de photomasques plus efficace et plus rentable.
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