Occasion ETEC Mebes 4 #9252186 à vendre en France

ETEC Mebes 4 est un équipement avancé de production et de production de masques conçu pour produire des masques de circuits intégrés pour des applications commerciales et militaires. Le système est basé sur une plate-forme d'architecture ouverte qui permet l'intégration de divers composants logiciels et matériels. Il est capable de supporter divers processus lithographiques tels que stepper, balayage du faisceau d'électrons, ainsi que des traceurs de raster et de vecteur. Les premiers modèles de l'unité ont été construits dans le but de fournir une méthode efficace de génération de masques de circuits intégrés par l'utilisation de divers algorithmes sophistiqués. Il emploie un certain nombre de fonctionnalités afin de fournir un résultat optimal. Ces caractéristiques comprennent la capacité de compenser la surexposition, le lissage des parois latérales, le désalignement et les dimensions d'ouverture. La machine a également la capacité de définir des motifs de masque avec une haute résolution et d'effectuer un contrôle d'exposition. De plus, Mebes 4 a la capacité de supporter la génération de masques de circuit intégré pour diverses tailles de plaquettes. Cette capacité permet la réalisation de masques adaptés à différentes applications. L'outil utilise également des techniques de broyage et de gravure de haute précision pour réaliser des masques de haute qualité. En termes de logiciels, ETEC Mebes 4 exploite le logiciel bien connu Photon Exposure Tool (PET). Ce logiciel est conçu pour fournir aux utilisateurs les outils nécessaires pour créer des masques de circuit intégré de haute qualité. Il contient également une grande bibliothèque de modèles de mise en page prédéfinis qui peuvent être utilisés pour la création de diverses définitions de mise en page. Le modèle est hautement automatisé, permettant des processus automatisés tels que l'alignement automatique, le placement, l'exposition et la fabrication. Il possède un certain nombre de caractéristiques qui en font un outil puissant dans la fabrication de masques de circuits intégrés incluant la capacité à définir des structures à haute résolution ainsi que des structures à grande échelle en une seule opération. Mebes 4 fournit également à l'utilisateur les règles de conception nécessaires pour créer des masques conformes aux normes actuelles de l'industrie. Cela se fait par la mise en place d'un contrôleur de règles de conception (RDC) ainsi que d'une bibliothèque de règles de conception configurables. Avec ses algorithmes sophistiqués, l'équipement est un outil inestimable pour la réalisation de masques de circuits intégrés.