Occasion ETEC Mebes 4000 #9412599 à vendre en France

ETEC Mebes 4000
ID: 9412599
E-Beam exposure system Column.
ETEC Mebes 4000 est un équipement avancé de production de masques pour la fabrication de composants électroniques submicroniques et MEMS. Il dispose d'un système d'exposition des plaquettes de haute précision, d'une unité d'impression automatisée des plaquettes et d'une machine d'inspection photomasque haute résolution. L'outil avancé d'exposition des plaquettes permet une description lithographique précise et répétable et l'imagerie de la zone exposée. L'actif intègre un motif de diffraction à haute résolution et un indicateur capable de contrôler avec précision l'exposition aux limites des bords et l'orientation du motif. La précision et la répétabilité très fines du processus d'exposition aident à réduire la possibilité d'erreur dans le processus d'imagerie. Le modèle automatisé d'impression de plaquettes est un équipement entièrement intégré et automatisé d'impression de plaquettes qui permet une impression rapide, haute résolution et le placement précis du motif fini sur le substrat. Le système dispose d'une unité d'alignement de masque autoalignant de pointe, assurant l'impression et le placement précis du motif imprimé. Enfin, la machine d'inspection photomasque haute résolution incluse dans Mebes 4000 permet l'inspection du photomasque fini pour détecter les erreurs ou les défauts. Le photomasque peut être inspecté à différents grossissements et intensités de lumière, permettant la détection précise des défauts. En résumé, ETEC Mebes 4000 fournit des capacités avancées de production de masques pour l'électronique submicronique et les composants MEMS. Il intègre le motif de diffraction haute résolution et prober, un outil automatisé d'impression de plaquettes, et des capacités d'inspection de photomasques haute résolution dans un atout hautement reproductible, précis et intégré.
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