Occasion ETEC Mebes 4500-5500 #9081928 à vendre en France

ETEC Mebes 4500-5500 est un équipement de production de masques conçu pour des procédés de fabrication de photomasques de haut volume et de haute qualité. Le système utilise à la fois le faisceau d'électrons et la technologie d'imagerie optique pour créer des photomasques à haute résolution. Le cœur de l'unité est sa machine d'écriture de faisceau d'électrons haute résolution (EBW), qui utilise une colonne E-Beam automatisée pour générer les photomasques utilisés dans la fabrication des appareils. L'outil E-Beam dispose d'une vitesse de balayage maximale de 10 millions de points/seconde, en utilisant un faisceau de 6 à 30 nm. Cela permet la création de photomasques extrêmement précis avec la capacité d'augmenter la résolution et de réduire la contamination des particules. En outre, l'actif est livré avec une unité d'exposition optique automatisée Vamis DLP (Digital Light Processing), et supporte à la fois les niveaux de résolution de lithographie standard (5µm min) ainsi que de multiples résolutions améliorées. En plus de ses capacités de haute résolution, Mebes 4500-5500 dispose également d'un certain nombre de fonctionnalités conçues pour améliorer la vitesse et la productivité. Il s'agit notamment d'un modèle avancé de manutention de substrat robotique, d'un équipement de positionnement guidé par laser réglable et d'un système d'inspection photomasque rapide doté d'une capacité d'inspection automatisée et de balayage manuel. Dans l'ensemble, l'ETEC Mebes 4500-5500 est une unité de production et de génération de masques extrêmement avancée et fiable qui offre précision, vitesse et précision. Ses caractéristiques lui permettent de créer des photomasques de haute qualité qui répondent à des spécifications strictes avec une contamination minimale des particules. Cela en fait un choix idéal pour les applications à haut volume, et est une solution rentable pour améliorer les capacités de lithographie dans les processus de fabrication.