Occasion ETEC Mebes 4500-5500 #9081929 à vendre en France

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ID: 9081929
Thermal field emission (TFE) gun Includes (2) Ion pumps.
ETEC Mebes 4500-5500 est un équipement innovant de génération et de production de masques. Ce système robuste de production de masques fournit des photomasques automatisés haute résolution pour une utilisation en lithographie micron ou submicronique. Il offre une uniformité CD de qualité et des masques sans défaut pour les processus tels que l'isolation des tranchées peu profondes, le développement d'interconnexions et la fabrication de produits de la ligne IC. L'unité fournit une gamme de caractéristiques qui soutiennent une production flexible et rentable. Il s'agit notamment d'un scanner laser haute vitesse et d'une chambre de travail, qui permettent un alignement des masques haute résolution et haute précision ; une machine de gravure à commande logicielle qui crée des masques avec une grande uniformité CD et une uniformité de motif supérieure ; un outil de poinçonnage et de mise en forme entièrement programmable, qui permet la production efficace et précise de motifs de masque final ; et un manipulateur de plaquettes qui permet une manipulation et un stockage fiables du masque. Mebes 4500-5500 utilise un logiciel de pointe contrôlé par ordinateur qui assure une surveillance et un contrôle efficaces en temps réel. Ce modèle sophistiqué permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler l'ensemble du processus de production, y compris les paramètres du processus, la vérification de la disposition des masques et le filtrage des matériaux défectueux. De plus, l'équipement fournit un processus efficace de nettoyage des plaquettes, assurant une surface de masque propre et cohérente avant le début des processus d'alignement. Le système offre une gamme d'avantages aux utilisateurs, notamment une efficacité de production optimisée, un rendement élevé, une meilleure uniformité des rendements sur l'ensemble de la plaquette, une réduction significative des défauts liés au masque et une augmentation des recettes de produits. En outre, l'unité peut également être utilisée pour produire des solutions de motifs optimisées pour un large éventail de technologies, telles que des produits de mémoire avancée, des systèmes microélectromécaniques, et l'électronique intégrée. En conclusion, ETEC Mebes 4500-5500 est une machine avancée de production de photomasques qui fournit aux utilisateurs de nombreuses fonctionnalités puissantes pour produire des modèles de masques à haute résolution et rentables. Cet outil de précision offre des résultats fiables et de haute qualité, et est un outil inestimable pour de nombreux procédés de fabrication de semi-conducteurs.
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