Occasion ETEC Mebes 4500 #9087972 à vendre en France

ETEC Mebes 4500 est un équipement de génération et de production de masques conçu pour des applications lithographiques de haute qualité dans la gamme submicronique (allant de 0,35 µm à 10 µm). Ce système de génération de masques fournit des performances supérieures pour une variété d'applications telles que DRAM, SRAM, Flash, ASIC et IC analogiques/numériques. L'unité est composée de deux modules indépendants qui travaillent ensemble pour traiter et générer des masques. Le premier module, Mebes 4500 Mask Generator, fournit un générateur de motif de masque de haute précision pour répondre aux exigences de la production avancée sur divers substrats et conceptions complexes. Équipé de plusieurs couches de composants électroniques, le générateur permet la génération de masques pixel-parfait pour différents processus de fabrication. Le générateur offre des fonctionnalités telles que des paramètres de processus réglables, une compensation de profil et un algorithme unique de « marquage et mesure ». Le deuxième module, ETEC Mebes 4500 Mask Production Machine, est le côté de production automatisée de l'outil. Il est conçu pour automatiser la production des masques à l'aide de ses systèmes intégrés de métrologie et de traitement d'image. Grâce à cet actif, les opérateurs peuvent détecter les défauts sur les masques et apporter des corrections avant leur impression. En outre, il dispose d'un certain nombre de mécanismes automatisés d'inspection et de contrôle de la qualité conçus pour s'assurer que les masques peuvent être produits selon des normes élevées. Le modèle Mebes 4500 offre un certain nombre d'avantages pour la production de lithographie. Par exemple, le traitement et la production de l'équipement sont rapides et précis, fournissant un processus de lithographie précis et reproductible. En outre, il est équipé d'un certain nombre d'outils logiciels pour créer des masques personnalisés, et pour optimiser les processus de production. Les fonctions automatisées d'inspection et de contrôle de la qualité permettent également de réduire les délais de production et d'augmenter la précision. Dans l'ensemble, ETEC Mebes 4500 System est une unité idéale pour la production de lithographie sous microns. Grâce à ses capacités de production et de production précises, la machine offre des masques de haute qualité et des processus de production optimisés pour diverses conceptions d'IC.