Occasion ETEC Mebes 4500 #9087976 à vendre en France

ETEC Mebes 4500 est un équipement de génération et de production de masques conçu pour rationaliser le processus de fabrication de masques lithographiques. Ce système est capable de générer ou de nettoyer les données de conception existantes, ce qui permet d'optimiser les œuvres d'art prêtes pour la production lithographique. Mebes 4500 est conçu pour offrir un rendement et une productivité supérieurs. Ce matériel est équipé d'une lithographie haut de gamme de faisceau de photons, capable de motifs de masques complexes avec une sortie de bruit faible. Sa fonction intégrée de correction des défauts réduit considérablement le temps de récupération et de réparation. L'unité est conçue pour le chargement manuel, ce qui permet un contrôle total du placement du motif lithographique sur le masque. Cette machine peut également effectuer des déplacements automatisés pour des opérations à haut volume. Grâce à ses méthodes d'imagerie avancées, l'outil est capable de reproduire fidèlement de beaux détails. Il supporte une variété de substrats photomasques, ce qui lui permet de générer des masques pour dispositifs semi-conducteurs classiques et exotiques. Le 4500 offre une large gamme de fonctionnalités qui améliorent le délai de production et minimisent les erreurs. Sa conception ergonomique est conviviale et réduit la fatigue des opérateurs lors des longues courses. Son architecture modulaire et extensible permet la configuration qui convient le mieux à votre flux de travail et aux préférences des utilisateurs. La répartition variable des tâches de cet actif, les corrections de lumière incidente et la conception assistée par ordinateur ne sont que quelques-unes des caractéristiques qui en font un outil idéal pour la production de masques. Le modèle de génération de masques ETEC Mebes 4500 est un outil efficace et convivial pour la production de masques lithographiques. Ses caractéristiques et fonctions de pointe permettent des rendements maximums tout en diminuant le temps d'exécution et les erreurs de production. Ces caractéristiques, combinées à son design hautement configurable, en font un outil essentiel pour la génération de masques de niveau de production.