Occasion ETEC Mebes 4500 #9087987 à vendre en France

ETEC Mebes 4500 est un équipement de génération et de production de masques conçu pour la production de photomasques, qui sont des composants très importants dans la fabrication de circuits intégrés. Ce système comprend plusieurs composants, dont un scanner laser, une alimentation électrique, un logiciel de conception assistée par ordinateur (CAO) et un support assisté par vide. Le scanner laser utilise la technologie E-Beam, qui utilise un faisceau d'électrons pour définir la forme du photomasque. Ce processus est très précis en raison de la focalisation et de la direction très précises du faisceau d'électrons. En outre, le scanner laser peut produire des masques avec de très petites tailles de caractéristiques et des géométries complexes. L'alimentation est chargée de fournir la puissance nécessaire à la production du photomasque. Cette puissance est fournie sous deux formes : courant continu (DC) et radiofréquence (RF). La puissance continue est utilisée pour créer une charge sur la surface du photoconducteur qui sert ensuite à tracer le dessin sur le photomasque. La puissance RF est utilisée pour créer le processus « gravure plasma », qui est utilisé pour rendre les motifs de masque plus permanents. Le logiciel de conception assistée par ordinateur (CAO) utilisé dans l'unité Mebes 4500 est très avancé et polyvalent. Il peut être utilisé pour générer une variété de dessins de photomasques et modifier des dessins existants. Le logiciel CAO permet également de manipuler des paramètres tels que la puissance et la longueur d'onde, qui peuvent être utilisés pour créer des photomasques avec des spécifications électriques spécifiques. Enfin, le support assisté sous vide permet de maintenir le photomasque en place pendant le processus de gravure, ce qui est nécessaire pour assurer la bonne mise en place du masque pendant le processus de production. Dans l'ensemble, l'ETEC Mebes 4500 est une machine de production et de production de masques très avancée et fiable. Sa grande précision et sa petite taille le rendent parfait pour la production de photomasques, qui sont un élément essentiel de la fabrication de circuits intégrés. Son logiciel polyvalent de conception assistée par ordinateur (CAO) permet de modifier les conceptions des photomasques, et le support assisté sous vide assure que les masques sont correctement placés pendant la production.