Occasion ETEC Mebes 4500 #9087990 à vendre en France

ETEC Mebes 4500 est un équipement de production et de génération de masques haute performance avec un ensemble complet d'outils pour produire et produire des photomasques. Il offre des capacités pour un large éventail de projets de semi-conducteurs, tels que le processeur, le traitement numérique du signal, la mémoire, le signal mixte analogique et la logique haute vitesse. Mebes 4500 dispose d'un système intégré pour la génération et la production de masques qui prend en charge les services avancés de mise en page de masques. Il comprend également une puissante base de données de conception de masques et de puissantes capacités d'inspection de masques. L'unité est entièrement automatisée et conçue pour permettre un développement rapide du masque et un rendement de production élevé. La machine offre des outils d'écriture de masque sélectionnables (émulateurs MPC) et des moyens d'inspection de masque avec des capacités d'inspection et de mesure avancées, telles que l'analyse du contenu des pixels, la détection automatique des défauts, l'isolation des défauts et les capacités d'imagerie optique. Cela permet aux utilisateurs de créer des masques précis et de haute qualité rapidement, et avec une interaction minimale de la part de l'opérateur. ETEC Mebes 4500 dispose également d'outils de lithographie avancés conçus pour fournir des résultats extrêmement précis. La plate-forme de conception ETEC offre des capacités de lithographie haute vitesse, avec les dernières technologies de pointe telles que la dose d'exposition ajustable, l'éclairage polarisé contrôlé et les effets défocaux réduits. Cette plateforme comprend également des capacités de simulation avancées pour optimiser le processus lithographique. Mebes 4500 est également conçu avec un modèle d'opération de masque automatisé qui assure des opérations cohérentes et fiables. L'équipement offre des outils puissants pour la fabrication et l'inspection des masques, le routage, l'optimisation de la disposition, la vérification des règles de conception et la vérification. Il offre également de puissantes applications logicielles et des programmes d'analyse pour des tâches automatisées, comme la spécification des paramètres de lithographie, la simulation, l'automatisation et l'OPC. De plus, l'ETEC Mebes 4500 offre une vaste gamme de capacités avancées de fabrication, de test et de post-traitement de masques. Le système est également conçu avec des outils sophistiqués de manipulation et de gestion des données, qui permettent aux utilisateurs de suivre rapidement et facilement les données de masque tout au long du processus de production du masque. Dans l'ensemble, Mebes 4500 est une unité complète qui offre des capacités avancées pour créer et produire des photomasques précis et de haute qualité. Il comprend des outils de lithographie de pointe qui prennent en charge les services avancés de mise en page de masques et les simulations de lithographie. Il offre également des outils automatisés d'exploitation et de gestion des données, ainsi qu'une suite de capacités avancées de fabrication, d'inspection et de post-traitement des masques. Il s'agit donc d'une solution idéale pour un large éventail de projets de semi-conducteurs.