Occasion ETEC Mebes 4500 #9396894 à vendre en France

ETEC Mebes 4500 est un équipement de génération et de production de masques qui permet la production en masse de photomasques de haute précision utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise une technologie d'écriture directe laser de pointe qui permet l'écriture ultra-rapide de fonctionnalités complexes avec une précision et une répétabilité inégalées. Ce système de pointe est capable de générer une multitude de motifs de masque complexes avec des tailles allant de 3 μ m à plus de 50 μ m. Mebes 4500 dispose de quatre têtes d'exposition laser, imagerie bidimensionnelle, ainsi que le contrôle du mouvement de la tête d'adresse, de l'étage réticulaire et de l'étage wafer/masque. Ceci assure une action précise d'écriture, d'imagerie, d'alignement et d'homogénéisation des motifs de masque aux exigences de précision souhaitées. De plus, l'unité intègre un algorithme d'optimisation du processus réticulaire qui fournit des résultats cohérents et reproductibles en effectuant des ajustements au cours de la séquence de motifs initalement spécifiée. Le procédé de fabrication de masques très précis et très reproductible de l'ETEC Mebes 4500 permet de réaliser les conceptions les plus complexes et les procédés de lithographie les plus avancés. Cette puissante machine est capable de produire des masques avec une résolution allant jusqu'à 5000 angles d'exposition, 6x mieux que les masques photo traditionnels. Il dispose également d'une vitesse impressionnante, générant des masques jusqu'à 40 fois plus rapides que les technologies alternatives. Un certain nombre de capacités d'inspection avancées sont également incluses, comme l'analyse des cartes de défauts, le contrôle ASML de la taille des taches et l'inspection des plaquettes à haut débit. L'outil prend également en charge l'opération arrière de la plaquette pour les structures 3D et un traitement exclusif Image Split/Merge pour les masques extrêmement grands. Mebes 4500 est une solution idéale pour les fabricants de masques, générant des masques de haute précision avec une répétabilité bien supérieure à tout autre actif. Son procédé d'écriture laser assure une précision et une rapidité inégalées dans la production des modèles de masques les plus complexes et les plus avancés.