Occasion MICRONIC 6D-2V #9259005 à vendre en France

ID: 9259005
Style Vintage: 2014
Laser system West wind spindles Electronic depth control and broken bit detection Indexing pressure foot Linear drive motors: X, Y, Z Laser diameter check and dynamic run out,: 22" x 30" SIEB and MEYER 84 controllers Operating system: Windows 7 HITACHI Cassette system 2014 vintage.
MICRONIC 6D-2V Mask Generation & Production Equipment est une solution de fabrication de dispositifs semi-conducteurs haute performance. 6D-2V système est conçu pour les procédés à base de silicium et les applications de 1 à 6 microns. Il est équipé d'une plate-forme de production supérieure 6 axes qui assure la plus grande précision et précision dans le rendement et le débit. Il dispose d'une plate-forme d'alignement de masque unique avec des étages réglables indépendamment pour l'alignement avancé des motifs, une unité de balayage de haute précision pour le positionnement précis des masques, et un contrôleur d'alignement de masque à grande vitesse pour la gestion de plusieurs applications matérielles et logicielles. La machine MICRONIC 6D-2V offre une variété de caractéristiques visant à améliorer le fonctionnement des fabricants de semi-conducteurs à haut volume. Il est équipé d'un outil monophasé pour l'imagerie directe de la plaquette de travail. Cette fonctionnalité permet aux appareils d'une taille maximale de 50mm d'être directement imagés sans aucun suivi externe. Il offre également un atout unique à double étage wafer-to-mask qui permet une génération de masque stable et haute résolution pour les photomasques d'une taille maximale de 200mm. En utilisant un amplificateur haute tension haute bande passante et faible bruit, le modèle 6D-2V peut obtenir une précision d'exposition de 4 microns grâce à sa traduction efficace et précise des images de motifs. Un chemin optique amélioré assure un débit fiable et un retravaillement minimal. Son équipement optique de pointe fournit également une large gamme dynamique de jusqu'à 2000 étapes d'exposition par cadre et présente des performances d'aberration supérieures. Le système MICRONIC 6D-2V offre également une capacité intégrée de revêtement anti-reflet (ARC) pour garantir la plus haute résolution de masque et la plus grande précision d'imagerie. Il est également équipé d'un masque multicouche conforme pour réduire le coût de l'imagerie multicouche et de l'inspection. La fusion du masque multicouche assure également un positionnement précis et un alignement correct entre les couches. 6D-2V fournit également une machine d'inspection à haute vitesse et à faible bruit pour les masques 2D et 3D. Il prend en charge divers formats de rapports d'inspection, y compris la détection d'images optiques, la détection de bords, la détection de cercles ponctuels et la détection d'images fausses. Avec son outil d'alignement de haute précision, l'enregistrement entre motifs peut être parfaitement réalisé. MICRONIC 6D-2V dispose également de divers accessoires supplémentaires, dont des armoires de rangement, un aspirateur multi-stations, un dispositif manuel de réglage de l'alignement des motifs, une trousse d'outils pour l'alignement et l'entretien des masques et un modèle de traçabilité des produits. Il offre également une unité d'auto-alignement fiable qui permet l'alignement du masque avec vitesse et précision. 6D-2V dérive thermique ultra-faible et construction basse vibration assure également une stabilité parfaite à long terme. Avec sa haute précision optique, sa capacité d'enregistrement et d'automatisation des masques, l'équipement MICRONIC 6D-2V est un système de production de masques leader. Il fournit une excellente résolution, débit, précision et précision pour la production de semi-conducteurs à haut volume.
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