Occasion MICRONIC Mach 2 #9258989 à vendre en France

L'équipement MICRONIC Mach 2 de génération et de production de masques est un équipement polyvalent et de haute précision qui permet la création de divers masques physiques pour des applications de microélectronique. L'unité utilise la technologie de photolithographie et de faisceau électronique (faisceau électronique) pour générer et traiter des masques sur et à travers les substrats. Il offre la flexibilité et la précision nécessaires pour le prototypage, la production de masques à haut rendement et les opérations QC/QA. Mach 2 dispose d'un étage de plaquette de 300mm pour permettre le déplacement d'une surface de travail de masque le long des axes x, y et z à bord de la machine. La précision de l'outil de navigation est de 0,1 μ m avec des vitesses de course allant jusqu'à 140 mm/s. Il est capable de méthodes standard, multi-masques et multi-étapes. Une source d'ions 2kW et des moyens de positionnement à 6 axes permettent de créer une large gamme de dispositifs pouvant être conçus en masques d'un diamètre pouvant atteindre 6 pouces. La source d'ions permet un contrôle optimal de la dose lors de l'utilisation de processus de gravure d'ions CF4 ou Ar. Utilisant un modèle automatique d'alignement des plaquettes de précision, MICRONIC Mach 2 est capable d'aligner plusieurs étapes et de créer des masques de production d'une taille allant jusqu'à 150 mm. Mach 2 peut être utilisé pour créer des images physiques jusqu'à 0,35 μ m de résolution et des tailles de fonctionnalités jusqu'à 500 μ m sur un seul substrat. Pour les comparaisons et les processus QC/QA, MICRONIC Mach 2 produit également des images masquées de production sous forme de bitmaps numériques (fichiers DFT). Mach 2 rend la production de masques plus rapide, plus efficace et plus précise. En utilisant la technologie avancée de photolithographie et de faisceau électronique, il fournit un débit rapide et une production constante de haute précision de masques à motifs photolithographiques. Et sa capacité à traiter de grands domaines de travail le rend adapté au prototypage, aux processus d'AQ/CQ de production et à d'autres applications.