Occasion MICRONIC MP-80 #9153039 à vendre en France

MICRONIC MP-80 est un équipement de génération et de production de masques conçu pour produire rapidement des micro-masques haute résolution nécessaires à la fabrication de MEMS, de semi-conducteurs composés et d'IC. En fonctionnement, MP-80 utilise un faisceau d'électrons en écriture directe en site plein pour générer avec précision des masques de dimensions critiques aussi petites que 0,1 µm. Le système est équipé d'étapes de traduction de haute précision pour le déplacement XYZ du substrat de masque, ainsi que d'une unité d'optique contrôlée par logiciel (SCOS) pour assurer une qualité d'image cohérente et réduire les erreurs de désalignement. De plus, MICRONIC MP-80 est intégré à un outil innovant d'exposition au faisceau d'électrons à faible perte (LET). Cet outil assure que le faisceau d'électrons reste toujours au foyer, compensant les contours de surface potentiels du masque à la volée. Pour ce faire, on mesure la position du faisceau d'électrons en temps réel et on ajuste la focalisation du faisceau en conséquence. MP-80 est également équipé d'une machine de mesure de la planéité in situ pour détecter les déformations du substrat et d'autres défauts du masque avant la fabrication. MICRONIC MP-80 est également conçu pour faciliter l'utilisation. Son interface utilisateur permet à l'utilisateur de configurer et d'exécuter intuitivement des masques à partir de dessins existants ou de créer ses propres dessins. Des fonctionnalités telles que le traitement des données du masque, le placement des fonctionnalités, la vérification et les outils de mise en forme des faisceaux sont disponibles avec le logiciel fourni. L'outil est également livré avec une bibliothèque de motifs d'éléments standard qui peuvent être rapidement incorporés dans une conception de masque. MP-80 est un atout fiable et fiable pour la production et la fabrication de masques. Son modèle d'entraînement de haute précision et ses capacités avancées de contrôle des processus sont plus que capables d'atteindre un débit de début à fin de 72 masques en 1 heure, avec une résolution de 0,1 µm. Cela le rend idéal pour une grande variété d'applications dans la fabrication de MEMS, semi-conducteurs composés, et IC.