Occasion QUANTRONIX DRS 840 #9396110 à vendre en France

QUANTRONIX DRS 840 est un équipement de production et de production de masques haute performance. Il est conçu pour des applications avancées de microlithographie, y compris l'inspection, la caractérisation et la fabrication de substrats et de structures de masques. Le système est capable de produire une large gamme de photomasques, des masques standard monocouche aux systèmes de masquage multicouches avec un enregistrement précis et une précision de recouvrement critique. Le DRS 840 est une solution rentable pour la microlithographie industrielle, avec des fonctionnalités intelligentes qui optimisent le débit et réduisent les coûts. L'unité s'intègre à QUANTRONIX suite innovante d'outils de création de masques, d'inspection de masques et de métrologie. Cela inclut une puissante et automatisée machine de création de masque avec des algorithmes de calcul avancés pour générer des photomasques avec précision. Il est équipé d'un poste d'inspection automatisé des masques hautement sensible pour identifier rapidement les défauts dans les photomasques, et d'un outil de métrologie de pointe pour l'analyse approfondie des structures jusqu'à l'échelle des sous-microns. Tous ces éléments sont faciles à utiliser et à contrôler avec une interface utilisateur graphique intuitive. QUANTRONIX DRS 840 permet une large gamme de substrats et de motifs photomasques, y compris EAA, positif, négatif et MDO (Multi-Dimensional OPC). L'actif peut également gérer une large gamme de tailles de points, de 250 nm à 25 μ m. Le modèle comprend un mandrin sous vide intégré, permettant un chargement et un déchargement rapides et faciles du masque. Il est également équipé d'un moniteur de processus intégré pour assurer la cohérence et la répétabilité des processus. Le DRS 840 est conçu pour fournir un processus de production cohérent et fiable. Il offre un temps d'exposition rapide de 2,5 s et est équipé de fonctions d'auto-focus et d'auto-calibration pour assurer une exposition précise. Il comprend également un équipement de surveillance laser en ligne, qui mesure constamment le niveau de puissance laser et la qualité du faisceau, et signale toute dégradation ou tout autre problème potentiel. QUANTRONIX DRS 840 est conçu pour minimiser les déchets, réduire les coûts et optimiser le débit. Il offre un contrôle automatique du niveau du masque, une répétabilité automatique de l'exposition et des fonctions de détection automatique de la contamination. Il comprend également un ensemble hautement configurable d'outils logiciels qui permettent aux utilisateurs de simuler l'exposition et d'analyser des modèles de photomasques complexes. Le système a une capacité de contrôle des processus qui offre aux utilisateurs la flexibilité de personnaliser leurs processus pour différents matériaux et exigences de substrat. Le DRS 840 est un excellent choix pour une production avancée de photomasques. Ses caractéristiques avancées et son automatisation sophistiquée en font un choix idéal pour toute opération de microlithographie à l'échelle industrielle. Il fournit la précision et la fiabilité nécessaires pour produire des photomasques sophistiqués et garantir des résultats de production précis et reproductibles, tout en servant de solution rentable pour les applications à l'échelle industrielle.