Occasion TAMARACK 162D #9130935 à vendre en France

TAMARACK 162D
ID: 9130935
Taille de la plaquette: 6"
Double sided mask aligner, 6" Typically for hybrids Max intensity: 70 mj/cm² Resolution: 25-35 microns Inverted split field microscope (2) Power supplies: 1000 Watts (2) Lamps: 1000 Watts Does not include mask / Substrate holders.
TAMARACK 162D est un équipement complet de génération et de production de masques de MOCVD Mask Technologies conçu pour une production à haut volume. Il a un design avancé pour les applications complexes de lithographie e-faisceau avec une large gamme de fonctionnalités de génération de masques. Le système utilise une étape avancée et répétition de génération de masque qui a un alignement XYZ moteur précis et des points cibles alignés au laser. Cela garantit que les masques sont reproduits avec précision à chaque étape. Le logiciel de génération de masque permet la manipulation de niveau CAO des fonctionnalités avec des capacités de résolution avancées. Cela fournit à l'utilisateur un excellent contrôle et précision pour les conceptions de masques. Le logiciel prend également en charge des conceptions complexes de haut niveau telles que des espacements complexes et des détails de fonctionnalités à plusieurs niveaux. La machine utilise un processus à haut débit pour générer la précision la plus fine des motifs de masque. Il comprend des fonctionnalités telles qu'un temps de balayage rapide et un étage haute résolution, qui permettent de masquer à grande échelle. Cela inclut des fonctionnalités comme une unité de positionnement optique entièrement automatisée et des tailles de pas variables. La machine supporte une large gamme d'expositions, y compris le masque traversant laser et le faisceau électronique. Cela permet de varier les temps d'exposition et la précision tout en garantissant des résultats de la plus haute qualité. En outre, il fournit plusieurs niveaux d'environnement protecteur et de contrôle sur le processus. L'étage de génération de masques supporte des masques avec jusqu'à 12 niveaux/degrés de liberté, et un emplacement précis des caractéristiques à 0,25 microns avec une longueur de ligne minimale de 5 microns. Pour la production de masques, il supporte une variété de matériaux de support et de substrat et a un spectre complet de tailles de masques. Le design permet également de prendre en charge de multiples fonctions latérales. 162D est conçu pour une production à haute vitesse, à haute résolution et à haut volume. Ses caractéristiques fournissent une solution de fabrication rentable pour la production de masques, ce qui le rend idéal pour les entreprises qui cherchent à augmenter rapidement leur capacité de production de masques. Ses capacités avancées de conception et de traitement donnent aux utilisateurs la flexibilité et le contrôle dont ils ont besoin pour atteindre un niveau élevé de précision et de précision pour leurs conceptions de masques.
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