Occasion ZEISS CDC32 #9222612 à vendre en France

ZEISS CDC32 est un équipement de production de masques utilisé pour le processus lithographique. Il est basé sur une station de travail PC compatible IBM et un microscope électronique à balayage ZEISS SEM8900 (SEM). Le système ZEISS CDC 32 combine à la fois la technologie avancée SEM et une unité logicielle. Le SEM8900 est un microscope électronique à balayage par émission de champ qui fournit une imagerie haute résolution et est utilisé dans la création et la modification de photomasques. Il est équipé d'une variété de détecteurs, y compris d'électrons secondaires et de détecteurs d'électrons rétrodiffusés pour permettre l'imagerie de diverses caractéristiques sur un échantillon. La machine logicielle comprend une interface utilisateur graphique (interface graphique) qui permet à l'utilisateur de créer et de manipuler facilement des dessins photomasques, ainsi qu'une base de données pour stocker les dessins qui en résultent. CDC32 outil a plusieurs caractéristiques qui permettent une conception efficace du masque. Premièrement, il dispose d'un outil d'extraction des caractéristiques qui permet d'identifier sur un spécimen des caractéristiques trop petites pour être identifiées par les yeux ou par les techniques traditionnelles d'exposition à la photoémission. Il dispose également d'une fonction « clé en main » qui permet aux utilisateurs de télécharger plusieurs images dans la base de données sans avoir à manipuler manuellement la conception. De plus, l'actif est équipé d'un balayage en z pour fournir une image tridimensionnelle. Le modèle CDC 32 est capable de créer des masques très précis pour diverses applications. Il offre une variété d'options de conception, telles que des formes hexagonales, des formes fractales, et plus encore. L'équipement offre également une variété de paramètres de conception, tels que la taille, la position, la profondeur de rainure, et la taille du stylo de faisceau. De plus, le système basé sur le logiciel permet la modification post-conception des masques pour ajouter, modifier ou supprimer des fonctionnalités d'image. Enfin, l'unité fournit des outils pour le contrôle de processus de photolithographie. Ces outils comprennent des paramètres de processus, comme la dose et le temps d'exposition. La machine est également capable de fournir une rétroaction sur le processus de lithographie pour permettre l'optimisation des processus. En résumé, l'outil ZEISS CDC32 est un outil puissant et polyvalent de génération et de production de masques. Il est basé sur un microscope électronique SEM8900 Scan et un actif logiciel qui fournit une variété d'outils et de fonctionnalités pour permettre la conception et la manipulation de masques efficaces. Il est capable de créer des masques très précis pour une variété d'applications et peut fournir des commentaires sur le processus de lithographie pour l'optimisation des processus.