Occasion ADE / KLA / TENCOR 351 #293605066 à vendre en France

ADE/KLA/TENCOR 351 Masque & Wafer Inspection Equipment est un système d'inspection optique très avancé utilisé pour examiner les plaquettes et les masques pour détecter les défauts, la contamination ou les variations de processus. Développé par ADE, l'unité ADE 351 est un outil puissant pour les fabricants de semi-conducteurs afin d'assurer la qualité du produit et la cohérence de leur processus de fabrication de micropuces. La machine utilise une combinaison d'algorithmes avancés d'imagerie, de reconnaissance de motifs à grande vitesse et de classification de défauts sophistiqués pour analyser des zones de plaquettes entières ou des sous-champs de résolution supérieure, afin d'identifier les défauts qui pourraient exister. Il utilise un outil automatisé en boucle fermée pour inspecter les motifs et les images en haute résolution, jusqu'à 20X1200 mag, sur toute la surface d'une plaquette. Le traitement avancé des images est utilisé pour détecter les particules, les rayures, les discontinuités de motifs et d'autres défauts physiques, ainsi que les variations de processus. La plaquette est ensuite numérisée automatiquement et les défauts et motifs identifiés avant leur présentation à l'opérateur. Avec des capacités de vision automatique et de reconnaissance de motifs, KLA 351 actif peut inspecter les planches densément emballées, minimiser les faux positifs, et optimiser le débit et le rendement. La sélection automatique des couleurs garantit le plus haut niveau de précision et de précision pour les masques les plus complexes. Le modèle prend également en charge la vérification et la validation au niveau du masque de tous les paramètres contrôlés avant l'expédition. Pour les besoins très sensibles des fabricants de semi-conducteurs, l'équipement TENCOR 351 supporte également un module avancé de surveillance de la contamination afin de détecter et d'alerter immédiatement l'opérateur de toute valeur aberrante. Cela, à son tour, aide à cerner les éventuels problèmes de contamination dès qu'ils sont détectés, en veillant à ce que des mesures correctives puissent être prises en temps opportun. De plus, la résolution de la caméra dépasse 1 micron, d'où une clarté sans précédent. 351 système fournit une large gamme de capacités de détection des défauts, y compris les caractérisations des défauts et les scanners de taille des défauts. L'architecture de balayage par paliers offre des images à haute résolution, qui permettent d'identifier rapidement les défauts de surface qui seraient autrement difficiles à détecter. La bibliothèque de défauts intégrée permet à l'unité d'identifier rapidement les motifs de défauts et de les signaler au fur et à mesure qu'ils sont trouvés. ADE/KLA/TENCOR 351 Masque et Wafer Inspection Machine fournit un outil polyvalent, robuste et fiable pour les fabricants de semi-conducteurs, offrant l'assurance que leur processus produit la plus haute qualité et rendement sans faille. Conçu pour un débit élevé et un faible coût, l'ADE 351 fournit des données de qualité exceptionnelle qui peuvent être utilisées pour optimiser les processus et améliorer les rendements des produits.