Occasion ADE / KLA / TENCOR CR-83 #9115144 à vendre en France

ADE/KLA/TENCOR CR-83 est un masque de haute précision et un équipement d'inspection des plaquettes conçu pour la fabrication moderne de semi-conducteurs. C'est un système modulaire et évolutif offrant une flexibilité et une évolutivité exceptionnelles, combinant optique haut de gamme, imagerie haute vitesse et métrologie avancée pour fournir la meilleure détection de défaut de classe. L'ADE CR-83 est conçu pour inspecter un large éventail de substrats complexes, y compris des photomasques, des réticules et des plaquettes, y compris des motifs arbitraires et des schémas de conception. L'unité est également capable d'inspecter des plaquettes de silicium exposées à de petits défauts de particules, tels que particules, vides, ecchymoses périphériques et collants. KLA CR-83 se compose d'une configuration optique, d'un réseau de détecteurs 2dimensionnels et de différents étages d'échantillonnage. L'optique est conçue pour accueillir une gamme complète de longueurs d'onde d'éclairage, du visible au spectre ultra-violet. De plus, la distance de travail peut être ajustée pour maximiser l'agrandissement du motif à inspecter. Le réseau de détecteurs est composé de deux caméras vidéo à haute résolution à l'état solide et d'un interféromètre laser. Ce réseau de détecteurs est conçu pour des mesures rapides, précises et tridimensionnelles. La machine contient également un étage de rotation de l'échantillon, qui permet d'examiner les échantillons sous différents angles. De plus, la table d'échantillonnage peut être ajustée à différentes hauteurs, en tenant compte de différents types de substrats. L'outil peut également être intégré à des systèmes d'auto-focalisation et d'auto-alignement, pour un contrôle précis et une inspection automatique. En outre, TENCOR CR-83 offre un ensemble unique d'outils de traitement d'image pour localiser et prioriser les défauts pour une analyse rapide. Ces outils sont basés sur un mélange d'algorithmes de reconnaissance de motifs, de traitement optique, de seuils et de comparaison d'images. Cela permet à l'utilisateur de prioriser les défauts critiques pour une analyse plus approfondie. CR-83 est également équipé de capacités de métrologie avancées, permettant une caractérisation détaillée des défauts. Cela comprend l'utilisation des rayons X et de la microscopie électronique, la gravure chimique et la microscopie à force atomique pour assurer la précision et la fiabilité. ADE/KLA/TENCOR CR-83 est un excellent choix pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant une excellente précision, évolutivité et flexibilité. Avec son large éventail de caractéristiques et de capacités, l'actif peut effectuer une inspection de masque et de plaquette de haute précision, rapidement identifier les défauts, fournissant la plus haute assurance de qualité pour la fabrication de semi-conducteurs.