Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9276171 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Masque et Wafer Inspection Equipment est un système automatisé polyvalent conçu spécifiquement pour l'inspection et la métrologie des substrats photomasques et wafer. L'unité fonctionne comme une combinaison d'étapes de processus, y compris l'examen des défauts, la reconnaissance et la classification automatiques des motifs, et la correction des défauts automatiquement détectés. Son interface utilisateur intuitive permet une inspection efficace des substrats photomasques, de 1,0 µm à 50 µm. La machine AMAT Complus 4T Masque et Wafer Inspection est capable de détecter et d'isoler un large éventail de défauts tels que les largeurs de ligne, les coins, les interstices et la variation de la longueur de ligne. En outre, l'outil fournit un contrôle complet du processus grâce à l'utilisation de réglage d'intensité réglable, de coordonnées, de réglages au microscope, de fréquence de balayage et de vitesse de balayage. Grâce à ces paramètres, l'actif est capable de détecter et d'analyser à la fois les défauts isolés et les défauts complexes tels que l'asymétrie de bout de ligne, les surgravures et les zones vierges. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le modèle Complus 4T Masque et Wafer Inspection utilise un étage automatisé, qui est utilisé pour positionner précisément la plaquette et le substrat photomasque pour une précision maximale dans le balayage. Cet étage est couplé à un objectif intégré avec une plage de grossissement de 10x - 60x, ce qui permet d'inspecter une variété de tailles de caractéristiques. L'équipement dispose d'un système d'étalonnage pour maintenir la précision des réglages de balayage, ce qui permet à l'unité de maintenir la précision à 0,05 µm sur des cycles répétés. En plus de ses capacités de production, Complus 4T Mask et Wafer Inspection machine prend en charge une large gamme d'options d'examen des défauts. Cela inclut une variété de modes de capture d'image pour inspecter la structure du film et les données de topologie des défauts. L'outil dispose également d'un actif sophistiqué de révision automatique des défauts qui peut rapidement analyser et trier les défauts en fonction de seuils prédéfinis. Un analyseur de défauts optionnel est également disponible pour fournir une classification supplémentaire des défauts et l'analyse des données. AMAT/APPLIED MATERIALS Le modèle Complus 4T Mask and Wafer Inspection fournit un faible TCO avec des solutions rentables pour l'inspection des masques et des plaquettes. Cet équipement est capable de fournir une précision d'inspection de haut niveau avec une opération répétable, fiable et conviviale. Tout cela permet aux utilisateurs d'effectuer des inspections de masques et de plaquettes avec un système intégré.