Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9298594 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection Equipment est un système polyvalent et compact qui combine efficacement les tâches d'inspection des masques et des plaquettes. Cette unité est spécifiquement adaptée aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs, offrant un haut débit et un bon rapport coût-efficacité ainsi qu'une résolution d'image inégalée. Il offre une série de technologies intégrées pour l'inspection des masques et des plaquettes, ainsi que pour l'examen et l'analyse des données. AMAT Complus 4T offre des capacités avancées d'inspection des masques, y compris la technologie d'amélioration de la résolution (RET) et la scatterométrie optique (OS). RET est une technologie utilisée pour mesurer les effets de la diffraction sur les motifs de masque, tandis que OS mesure la distorsion des électrons secondaires causée par les caractéristiques dans un motif de masque. Combinées, ces deux technologies permettent à APPLIED MATERIALS Complus 4T d'atteindre des niveaux élevés d'opacité et de netteté dans les images masquées en fournissant un niveau de détail qui dépasse les systèmes d'inspection concurrents. Pour l'inspection des plaquettes, Complus 4T offre une gamme d'outils innovants, y compris l'inspection sur le terrain projetée (PFI) et l'analyse d'images en couleur (CIA). Le PFI est une façon peu coûteuse et rapide d'inspecter les caractéristiques des photomasques conformes. Il fournit des mesures détaillées d'un large éventail de fonctionnalités et utilise plusieurs algorithmes pour comparer des images de champs multiples. La CIA combine la scatterométrie optique (OS) avec le traitement d'imagerie numérique (DIP) pour permettre l'imagerie haute résolution de tout motif sur une plaquette. Elle permet également la détection de contaminants optiques, permettant une détection fiable de particules ou de particules pour une production à haut rendement. AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T fournit également des outils d'examen fiables, y compris le module de détection automatique de motifs (APD). Le module APD détecte automatiquement les défauts critiques sur les images de masque et de plaquette et fournit des mesures de haute précision. Il est particulièrement utile pour détecter les caractéristiques que les méthodes de contrôle actuelles peuvent manquer, telles que les ruptures de bout de ligne et les bords difficiles à caractériser. Enfin, la machine est également livrée avec un logiciel complet pour l'analyse des données et le reporting. Cela comprend une installation d'exportation intégrée qui permet aux clients d'envoyer des rapports à d'autres systèmes ou à d'autres clients du courrier. En résumé, AMAT Complus 4T Mask and Wafer Inspection Tool fournit une résolution d'image inégalée et une série de technologies intégrées pour l'inspection des masques et des plaquettes, ainsi que pour l'examen et l'analyse des données. Cet atout garantit que les processus de fabrication du client respectent les normes réglementaires avec un niveau de détail et de précision sans précédent, ce qui en fait un outil essentiel pour une production de semi-conducteurs rentable.