Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus #9280524 à vendre en France

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ID: 9280524
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
Defect review system, 12" Wafer handling: Loader: AMAT ADO with RFID ETU, 12" ITU, 12" FFU with ULPA Filter SEM Column G2 EDX Column Column tilts: 45 Deg Wafer rotation option Stage wafer holder: 3 PIN Aligner optical microscope 5x, 20x, 100x Pal (On the OTW, cassette / Slot 1: Delta X= 500 μm, Delta Y= 500 μm ITU Repeatability: Delta X and Delta Y < 20 μm Stage accuracy: Delta X and Delta Y < 1.5 μm MTR: Delta X: 50 Delta Y: 30 μm Resolution at 1 KeV: 3 nm Focus map / focus offset: 90% defect with Delta Z < 3 μms Automatic defect offset / XY Map: 95% defects with Delta X < 1.5 μm and Delta Y < 1.5 μm EDX resolution: 4 nm Wafer throughput: 12 Wafers / Hours Defects throughput >1000 Defects / Hour Cleanliness front side: 0.013 PWP / cm² > size at 0.2 μm Largest load ampere rating: 8 A Full load current: 10 A Interrupt current: 10,000 Amps Power requirements: 1-120 VAC, Single Phase, 3 Wire 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz 2002 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus masque et wafer inspection equipment est un système avancé d'inspection optique automatisée (AOI) conçu pour les fabricants de semi-conducteurs et de dispositifs d'affichage. L'unité se compose d'un scanner de wafer double laser, d'algorithmes avancés de capture d'image et de reconnaissance de motifs, et de capacités de mesure de fonctionnalités numériques. La machine AMAT SemVision G2 Plus offre des performances supérieures pour la détection automatique des défauts de photomasque, la vérification de la disposition des masques et la révision des défauts au niveau des plaquettes, permettant des vitesses de processus plus rapides avec une précision améliorée. L'outil d'inspection des masques et plaquettes G2 Plus dispose de deux sources laser de haute puissance pour créer une source lumineuse lumineuse lumineuse, uniforme et répartie uniformément. La technologie dual-laser offre des performances améliorées sur les systèmes mono-laser et assure une imagerie rapide et précise de la surface du masque avec moins de fausses détections de défauts. La technologie d'imagerie de pointe capture des informations de motifs complètes et partielles avec une résolution de niveau pixel, offrant une détection de bord supérieure et un équilibre de luminosité, et augmentant la sensibilité aux défauts dans toute la zone du masque. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'actif SemVision G2 Plus dispose également d'un large éventail de techniques avancées de reconnaissance de motifs, y compris les éléments optiques diffractifs (EOD) et la détection de défauts à l'aide de l'imagerie de différence coplanaire (CDI). Une bibliothèque intégrée de modèles d'inspection fournit aux utilisateurs un modèle standard pour tester des masques et des plaquettes similaires, de sorte que les résultats d'inspection sont cohérents et reproductibles. Le modèle peut également être amélioré avec l'ajout d'optiques personnalisées, comme des lasers LED ou à ondes continues, et des niveaux de puissance plus élevés pour une meilleure analyse des défauts. L'équipement SemVision G2 Plus améliore la capacité d'inspection pour une variété d'architectures d'appareils, y compris le flip chip, le BGA, l'échelle des plaquettes et l'emballage ventilateur/ventilateur. Son interface conviviale permet un fonctionnement intuitif, avec détection et analyse des défauts en temps réel via des affichages à l'écran. Avec ses algorithmes optimisés et ses capacités de mesure avancées, le système G2 Plus contribue à augmenter la productivité et à améliorer l'assurance qualité pour un rendement maximal.
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