Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G4 #9401994 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS SemVision G4 est un équipement de pointe d'inspection des masques et plaquettes de haute technologie conçu pour permettre la détection et la caractérisation des micro-défauts sur les photomasques et plaquettes. Le système de contrôle est capable de détecter des défauts jusqu'à une résolution de 6 microns et peut être utilisé pour une large gamme d'applications semi-conductrices et microélectroniques. Le G4 utilise des algorithmes d'appariement de motifs basés sur la confiance ainsi qu'un certain nombre de techniques sophistiquées d'amélioration de l'image pour permettre la détection des défauts. L'unité est conçue pour analyser les images avant et arrière des plaquettes et des masques, permettant de détecter rapidement et efficacement même les plus petits défauts. Il dispose d'une interface utilisateur intuitive, permettant aux utilisateurs de configurer rapidement et facilement la machine pour détecter, classer et marquer des défauts dans les images avant et arrière. Le G4 est équipé d'une source lumineuse Xeno et d'une lampe à arc, créant une source lumineuse optimale pour détecter même les plus petits défauts. Il dispose de deux caméras CCD de pointe qui utilisent un objectif haute résolution pour capturer des images de masques et de plaquettes. Grâce à de puissants algorithmes d'analyse d'images, l'outil est capable de détecter et de caractériser les défauts microscopiques sur les masques et les plaquettes. Le G4 comprend une gamme d'algorithmes de détection de défauts de sous-microns, tels que DRC (Direct Registration of Characters) pour une adaptation efficace des structures de sous-microns. Il dispose également d'un algorithme de révision des défauts de niveau pixel qui permet à l'utilisateur de percer sur les défauts suspects et de les visualiser en détail. AMAT SemVision G4 est un outil indispensable pour la production de semi-conducteurs et de microélectroniques, offrant un moyen rapide et fiable de détecter et de caractériser les défauts sur les photomasques et les plaquettes. Avec ses algorithmes d'imagerie avancés, sa source lumineuse puissante et son interface utilisateur intuitive, le G4 établit la norme pour les systèmes d'inspection des masques et des plaquettes.