Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #293665708 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4 Mask and Wafer Inspection Equipment est un système d'imagerie de pointe conçu pour une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés (IC). L'unité combine des algorithmes d'inspection de champ lumineux et de champ noir et d'analyse d'alignement de pointe pour assurer le plus haut niveau de rendement dans la fabrication de semi-conducteurs et de plaquettes. La machine permet une inspection non destructive des défauts, fournissant des images détaillées de la topographie de surface, ainsi que les sites de défaillance potentiels dans un masque ou une plaquette. L'outil comprend des algorithmes avancés de traitement d'images qui lui permettent d'identifier même les plus petits sites de défauts potentiels qui seraient autrement manqués. L'actif est également capable d'inspecter et de distinguer les fines galettes et les défauts à deux profondeurs différentes au sein d'un même composant, permettant une inspection de haute qualité de chaque couche d'un masque ou d'une plaquette. Le modèle dispose d'une imagerie numérique haute résolution et d'une interface utilisateur intuitive qui permettent aux utilisateurs d'effectuer rapidement et facilement divers types d'inspection de masque et de plaquette. Les fonctionnalités supportées comprennent : inspection des défectuosités, inspection pré-scannée, inspection complète du masque de wafer, inspection des défectuosités ponctuelles et inspection des masques de copie. En outre, il peut évaluer plusieurs paramètres de géométrie de la matrice tels que le pas, la zone, la ligne/l'espace, le recouvrement, la forme et le placement. Par ailleurs, AMAT UVision 4 est équipé d'un équipement d'alignement de masque qui permet d'apparier simultanément jusqu'à deux masques de référence et un masque cible. Cela garantit l'exactitude et la répétabilité du processus d'inspection. Le système peut être exploité à partir de n'importe quel navigateur Web, unité d'exploitation Windows ou UNIX et est fourni avec une bibliothèque étendue de commandes automatisées Mask Inspection Machine (MIS) pour soutenir le fonctionnement automatisé. En outre, l'appareil dispose d'algorithmes brevetés de correction automatique pour réduire le temps d'inspection en réduisant le besoin de réglage manuel de l'outil. Les caractéristiques exceptionnelles et la fonctionnalité de APPLIED MATERIALS UVision 4 Masque et Wafer Inspection Asset en font un outil essentiel pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés. Le modèle permet une identification plus rapide et plus précise des défauts, ce qui améliore le rendement et le débit dans les environnements de fabrication.