Occasion ASML / HMI EP3 #293605104 à vendre en France

ASML/HMI EP3 est un équipement automatisé d'inspection des masques et plaquettes conçu pour identifier, mesurer et corriger les défauts sur les masques ou plaquettes individuels utilisés en lithographie semi-conductrice. Ce système combine l'imagerie au microscope électronique à balayage (SEM) avec les algorithmes avancés de fidélité des motifs et la technologie de détection des défauts pour produire une évaluation automatisée des caractéristiques et des performances des motifs. L'unité HMI EP3 dispose d'un générateur de faisceau d'électrons 200kV, avec des détecteurs d'électrons secondaires et de rétrodiffusion connectés. Il est capable de collecter des images à des résolutions allant jusqu'à 2nm/pixel et a un champ de vision allant de 0,5 à 4 mm. Il comprend également un ensemble de solutions logicielles pour étendre les capacités d'imagerie de la machine, permettant de mesurer les dimensions critiques, les géométries de motifs, les valeurs de tangage et l'analyse quantitative des images de masques et de plaquettes. Ces outils logiciels permettent une quantification et une identification précises des défauts, y compris la capacité de distinguer les défauts des caractéristiques de fond. L'outil ASML EP3 dispose également de fonctions de métrologie tridimensionnelles, permettant des mesures dimensionnelles rapides et précises avec une résolution inférieure à 50 nm. Cela se fait à l'aide de multiples vues pour reconstruire des images distinctes de caractéristiques tridimensionnelles complexes, permettant aux clients de mesurer leur pile de plaquettes à partir d'une seule capture d'image. L'actif EP3 comprend une variété de méthodes pour identifier, quantifier et corriger les défauts. Ces méthodes comprennent des algorithmes automatisés de reconnaissance des motifs pour l'identification des défauts et pour la visualisation des différences entre les motifs attendus et réels. Ce modèle offre également des outils de simulation basés sur la physique, permettant aux clients de comprendre leur flux de processus et d'optimiser pour améliorer les performances des produits. Enfin, ASML/HMI EP3 propose des outils d'analyse d'images de masques et de plaquettes et de corrections pour améliorer leurs performances. Cela inclut les technologies d'écriture directe pour la réparation des masques et des plaquettes, ainsi que les logiciels d'édition des masques et des plaquettes pour modifier les images et les motifs. HMI EP3 offre une approche intégrée de l'analyse des défauts et de la correction des plaquettes/masques, aidant les clients à réduire le coût et le temps de cycle tout en maintenant ou en améliorant les performances.