Occasion ASML / HMI EP3 #293615134 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ASML/HMI EP3 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes conçu pour fournir des capacités d'imagerie haute résolution et d'inspection critique aux fabricants de semi-conducteurs. Le système comprend une colonne électro-optique intégrée à une source d'électrons d'émission de champ de l'état de la technique et une colonne d'imagerie à l'état solide. L'unité optique multi-zones est équipée de source de lumière laser et d'optique de démagnification, offrant un grand champ de vision avec une profondeur de focalisation étendue. Une technique d'imagerie multi-angles est utilisée pour réduire la distorsion tout en maintenant un fort grossissement. La tête de balayage électronique multi-faisceaux contient un détecteur d'électrons secondaire et une source d'électrons à émission de champ centrée, capable de produire un faisceau avec des tensions d'accélération variables jusqu'à 100kV. Les faisceaux sont capables de produire une imagerie de contraste élevé avec des structures cristallines présentes dans les échantillons. Le module d'imagerie est intégré à une large gamme d'électronique de contrôle et d'acquisition de données. Le module logiciel de l'unité fournit une interface graphique intuitive et conviviale pour l'utilisateur avec des capacités de stockage et de récupération de données à long terme. Les résultats des inspections peuvent être intégrés dans la machine de contrôle de processus pour le contrôle de précision du procédé de fabrication des masques et des plaquettes. HMI EP3 permet également la personnalisation selon les besoins individuels de l'usine en fournissant des zones d'inspection définies par l'utilisateur, des tables d'erreurs détaillées et des fonctions programmables de stockage et de récupération des données. En outre, l'outil est fiable, efficace et précis pour obtenir des résultats précis dans les paramètres d'essai spécifiés. L'atout permet à l'utilisateur de contrôler plusieurs vues d'un même spécimen, permettant une meilleure résolution et une meilleure qualité d'image. Les opérations multi-faisceaux augmentent les temps de balayage et la commande de faisceau permet des détails précis dans les niveaux de polygones. De plus, le logiciel d'imagerie de masque et de plaquette permet à l'opérateur de définir des zones d'inspection, de les surveiller sur plusieurs couches et d'isoler les erreurs rencontrées au cours du processus d'imagerie. En conclusion, ASML EP3 est un modèle avancé d'inspection des masques et des plaquettes conçu pour fournir des performances fiables et efficaces avec des capacités d'imagerie haute résolution et d'inspection critique. L'équipement est personnalisable en fonction des besoins individuels de l'usine et permet une surveillance précise des erreurs et la récupération des données. L'imagerie optique multi-zones, la tête de balayage électronique multi-faisceaux et l'interface logicielle conviviale font du système le choix idéal pour le contrôle et l'inspection des processus de production dans l'industrie des semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques